半导体炉管区E/T问题的动态调度算法.pdfVIP

半导体炉管区E/T问题的动态调度算法.pdf

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维普资讯 现代管理 ModernM anagement 半导体炉管区 E/1I『问题的动态调度算法 潘青枝 ,周炳海 (上海交通大学 机械与动力工程学院,上海 200030) 摘要 :炉管区是半导体制造过程 中用于热处理 的重要区域。在多品种不同交货期的晶圆产品 连续到达的环境下,提 出了优化 目标为极小化 E/T (提前/延迟)值 的WCRH (加权成本率)算 法。该算法根据产品的交货期实时更新晶圆产品的加工优先级 ;通过计算和比较加权成本率来确 定哪一种晶圆优先加工以及投入加工的时间。仿真结果表 明,该算法在减小 E/T值和缩短加工 完成时间方面,优于文献 中提及 的启发式算法。 关键词 :半导体制造 ;批处理 ;炉管;提前/延迟 ;加权成本率算法 中图分类号 :TP29 文献标识码 :A 文章编号 :1003—353X (2008)07—0639—05 DynamicSchedulingAlgorithm forElT Problem in FurnaceDistrict ofSemi conductorFab PanQingzhi,ZhouBinghai ( Ⅻ咖咖£ofIndustrialEngineeringSchool E~ enng , 胁 Tong ,Shangha/2OOO30,Oh/ha) Abstract:Furnacedistrictisone ofthe mostimportantareas in semiconductorfabrication forheat· treating.Toresolvetheschedulingproblem ofthefurnacewhereexistingmuhi—productsnaddifferentduedates duringthebatchprocessing,adynamicschedulingalgorithmWas proposednamedWCRH (weightedcostrate heuristic)ofrminimizingtheE/T (earlinessandtardiness)basedondeliveryrestriction.Itrenewsthe operationpriorityofarrivingwaferaccordingtotheduedatesanddecidestheschedulingplanbased onthe comparisonofweihgtedcostrate.Experimentresultsindicatethatthealgorithmismoreefficientindecreasing E/T nadcompletedtimethna heuristicalgorithms. Keywords:semiconductorfbarication;batchprocessing;fi.1nmee;earhnessnadtardiness;WCRH algorithm EEACC:0140B 信息是不现实的,且计算量大 ,无法实际应用 。为 0 引言 此 ,本文在符合实际生产状况的假设条件下,提出 晶圆制造厂通常分为 四大 区:光刻区、蚀刻 一 种在交货期约束下加权成本率的动态调度算法, 区、炉管区、薄膜区。炉管的加工时间长 ,调度的

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