光学超分辨近场技术在光存储中的应用.pdfVIP

， · 光盘数据库与信息系统 · 光学超分辨近场技术在光存储中的应用 叶 苗，李 凯 f黄淮学院电子科学与工程系，河南 驻马店 463000) 摘 要：超分辨近场结构技术是在传统的超分辨光盘技术和近场光学的基础上发展起来的新技术。本文介绍了超分辨近场结构 技术的基本原理，综述 了该技术在纳米光信息存储和光刻方面应用研究的最新进展，提出了存在的问题，展望了它的发展前景。 关键词：超分辨：近场光学；光存储 Application ofSuperResolution Technology in LightStorage YE Miao，LIKai (HuanghuaiUniversity，HenanZhumadian 463000) Key words：superresolution；nearfield optics；opticalstorage 信息时代需要高度先进的信息存储技术。人们采用的信息 极限的优势，也具有许多自己的特点。2[1Super—RENS具有多层膜 存储手段从最简单的纸张记录存储、缩微照相存储到 目前流行 系(由两层保护层和一层掩膜构成)，如图 2所示，为了说明问 的磁记录存储和光盘存储。随着计算机多媒体技术的发展和计 题图中增加 了基板和记录层 (光刻胶)。掩膜层和记录层 间 算机网络的普及，超高密度、超大容量、超快信息存储技术受到广 的距离在近场范 围内f几十纳米)。Super-RENS的微区光场可 泛关注。以光子为信息载体的光存储技术具有传统的存储技术 分别利用掩膜层介质在 (比如磁存储)所不具备的特殊优势，近年来在技术上不断取得重 激光照射下的非线性效 大突破，在市场应用方面也获得了巨大成功。以光盘为代表的光 应或表面等离子体增强 存储器件已成为当代信息社会中不可缺少的信息载体，在数据和 效应来产生，分别称为 活动图像的存储等方面得到了广泛应用。引导光存储领域不断 孔径型和散射中心型。 向前发展的一条主线是如何提高存储密度，其中最为关键的就 Super—RENS实现超分 是光刻技术和工艺超分辨近场结构(Super—RENS)技术是近年来 辨 的关键是制作一层 藏 发展起来的一种集超分辨光盘技术和近场光存储技术于一身的 在激光作用下光学性 新技术。Il_它利用超分辨掩膜产生微小光场，并利用介质层巧妙地 质发生快速可逆变化 的掩膜。 图2 Super-RENS原理图 解决了高速扫描中近场飞行高度的控制问题，是目前最有实用化 前景的光子纳米存储技术之一。 2 Super—RENS在光存储技术中的应用 1 Super—RENS技术的基本原理 Super—RENS首先由J．Tominaga等人提出并应用于超高密 Super—RENS技术是在传统的超分辨光盘技术和近场光存 度光存储。采用 sb作掩膜，在Ge2Sb2 Te5记录膜上实现了 储技术的基础上发展起来的。超分辨光盘首先于 1991年在磁光 90nm的记录点。p恬来 J．Tominaga等又研究发现不同的介电保 盘中用磁致超分辨(MSR)技术实现。它是利用热虹食原理读出 护层对超分辨性能有重要影响，Sb薄膜熔化时与介电保护层 ( 的。光盘两层工作薄膜，一层为记录层，一层为虹食层(即掩膜层) SiN)产生压力，通过调整介电保护层的结构，将 sb薄膜与介电保 ， 当激光照射到高速旋转