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拉品工艺中直拉硅单品氧含量的优化研究
上海九晶电子材料股份有限公司技术研发部 ■ 王丽 汪贺杏 冯磊
摘 要:采用直拉法拉制硅单晶,在拉晶过程 中,研究了不同型号机械泵、等径功率、坩埚转速及投料
量等工艺参数对硅单晶氧含量的影响。结果显示:用抽气速率大的80泵,等径功率下降至58kW,
坩埚转速降低至6.4rmp/min,投料量降低至68kg,均可以降低硅单晶氧含量,并在此基础上得
出合理的拉晶生产工艺。
关键词:抽气速率;等径功率;埚转转速;投料量
一 引言 量70kg~H68kg条件下拉制的稳定生长的单晶,测试
随着单晶硅太阳电池需求的急剧增加 ,单晶硅 其氧含量 。试验仅测试单晶氧含量较高的头部 ,将
市场竞争愈演愈烈。为了在单 晶硅市场上占据一席 样片制成厚度为 1~2ram的样片,并进行化学抛光
之地,可通过降低成本和提高光电转换效率来实现。 腐蚀 ,测试其 中心部位的氧含量。测试在WQF一520
而提高光电转换效率,降低单晶氧含量是关键l】]。 型FFIR光谱仪上进行,按照ASTM 标准进行测量。
氧含量高主要是由于高温下熔硅与石英坩埚表
面SiO 反应所致。IsaoKanda等 研究了埚转和晶 三 试验结果与讨论
转对大直径直拉硅单 晶中氧浓度及分布的影响 ; 1不同抽气速率对单晶氧含量的影响
NorihisaMachida等 研究了氢气流及炉压对直拉 分别选取 10根使用70和80泵拉制的稳定生长
CZSi中氧浓度的影响。由于单晶炉内很多参数无
法在线测量 ,多应用数值模拟的方法模拟不 同的热
场条件对单晶硅中氧含量 的影响。任丙彦等4【]用数
值模拟的方法研究了复合热屏对氧含量的影响。日
本人星金冶等于 1980年用磁直拉法有效地控制了
晶体中的氧含量 ,但成本过高 ,不适用于太阳能硅
单晶。
本文基于实际生产的拉晶情况,分别研究了抽
气速率、等径功率、埚转转速及投料量等单晶工艺
参数对单晶氧含量的影响,并对其机理进行了分析。 样片编号
图1 抽气速率对单晶氧含量的影响
二 试验过程与测试 从图1可以看出,使用80泵拉出的单晶氧含量
本试验使用京运通80型单晶炉 ,试验条件分别 明显低于70泵拉 出的单晶。
为:(1)使用70和80两种型号的机械泵 ;(2)通过加 直拉硅单晶中的氧主要来源于熔硅与石英坩埚
强保温 ,将63kW 的等径功率降低至58kW ;(3)埚 的反应。SiO被Si还原成SiO(石英坩埚溶解反应)溶
转转速从7rmp/min降低至6.4rmp/min;(4)70kg投料 入熔硅中,并受 自然对流作用均匀分布于熔硅 中。
量降低至 68kg。 随着对流运动 ,传输到熔硅表面的氧原子会以SiO
分别选取 lo}E使用70和80泵,等径功率63kW 的形态挥发掉 。在硅的熔点温度,SiO的蒸气压约
和58kW,埚转转速7rmp/min和 6.4rmp/min,投料 为0.002atmt,99%的氧会挥发掉 ,l%左右的氧因
~ — 一
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