氢处理二氧化钛的光催化性能及电化学阻抗谱.pdfVIP

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2017-09-12 发布于重庆
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物理化学学报! !#$ %’( )(*+ #$% , -. /0123 450$63 7$83 !#$ #% !’ ( #$% ) #$$ *+,-. 氢处理二氧化钛的光催化性能及电化学阻抗谱! 刘鸿吴鸣吴合进孙福侠郑云李文钊 ! 中国科学院大连化学物理研究所大连 //%0#’ 关键词光催化二氧化钛电化学阻抗谱 ( （）（通常可通过物理浸渍法等、化学方法溶胶相同采用微机控制的恒电位 1 3 4XYX1ZA[W #R’A ）仪联接凝胶电化学沉积法等向光催化剂晶格中引入金属锁相放大器进行测试 ZA[W @#/0 4DE 3 4DE T # “ ” 小岛以加速光生电子空穴的转移提高改性后电位扰动信号为信号频率范围为 1 @ 5P /0 ) /00 光催化剂的活性 B/ C 同时运用物理和光电化学等 3 \I]3 手段研究半导体光催化剂的表面性质和光电化学性质可以为评价这些改性光催化剂的活性和研究反 ! 结果与讨论应机理提供依据B# ’ C 3 电化学阻抗谱!4DE 方法是研 I1F6G# 对EE+7 表现出较高的光催化降解活性 ! 究材料性质、化学特别是电化学过程和界面反应光催化降解的一级反应动力学常数为 EE+7 9I 机理的有力工具B2 C 3 本工作运用4DE 手段研究了纳 03 0#? ’@ 56 T / 空白F6G# 光催化降解 EE+7 的 9K 米F6G# 在氢气气氛下热处理后F6G# 的阻抗谱特征为 03 00R $@ 56 T / 而 F6G# 在空气中@@0 H 处理同其光催化活性之间的关系3 后光催化