射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能.pdfVIP

维普资讯 第27卷 第2期 北 京 科 技 大 学 学 报 V0l1．27NO．2 2005年 4月 JournalofUniversityofScienceandTechnologyBeijing Apr．2005 射频反应磁控溅射制备氧化铬薄膜技术及性能 熊小涛 阎良臣 杨会生 王燕斌 北京科技大学材料物理与化学系 ，北京 100083 摘 要 研究了采用射频反应溅射方法制备氧化铬耐磨镀层 的技术和薄膜的性能．结果表 明，采用金属靶材进行射频反应溅射时，由于靶材与反应气体 的反应，会出现两种溅射模式 ， 即金属态溅射和非金属态溅射 ，非金属态溅射模式的沉积速率很低 ．氧化铬薄膜的硬度主要 决定于薄膜中Cr20，含量，在供氧量不足时会生成低硬度 的CrO，制备高硬度氧化铬薄膜需要 采用尽可能高的氧流量进行溅射 ．采用在基片附近局域供氧，可以实现高溅射速率下制备出 高硬度 的氧化铬薄膜 ． 关键词 氧化铬；薄膜；磁控溅射；力学性能 分类号 TG174．44；O484．4 氧化铬薄膜是近年来发展出来并受到重视 铬 ．真空系统采用分子泵系统，系统的本底真空 的一种耐磨镀层 ．因为Cr20，具有高硬度 ，可达到 为2×10 Pa．溅射过程中工作气体为高纯氩气， 30GPa，低摩擦系数，熔点很高(达到2266。C)，因 流量为 8cm3／min，反应气体为高纯氧气，溅射过 此抗磨蚀能力强，而且具有与基体结合力强，脆 程 中压强为 2×10 Pa．基片选用 45号钢 ．溅射过 性低 ，内应力较小 (压应力)，可沉积较厚的镀层 程 中基片不加热，靶材与基片的距离为80mm， 等优点 ’，因此被用于数字磁记录读写头保护 溅射时间为 1h． 层，并称为超级保护层 ，以及用于气体轴承”， 制各 的氧化铬薄膜 的晶体结构采用理学 D／ 汽车的汽缸 内壁等 ．此外，氧化铬薄膜还具有高 Max-RB转靶x射线衍射仪分析，薄膜硬度采用 的抗氧化性能，耐腐蚀性能及特有的光学性能 NanoindentII硬度仪测量 ，薄膜厚度使用台阶仪 等，所 以在其他方面也有较广泛 的应用前景． 测量 ． 对于不 同的用途镀层 ，常采用不 同的制备方 法，如等离子体喷涂 ，化学气相沉积 ，辉光放 电， 2 结果与讨论 磁控溅射 ，不 同的制各方法具有不 同的优缺 点． 2．1射频反应溅射 的工作模式 在这些制备方法 中，射频磁控反应溅射方法虽然 化合物薄膜常采用反应溅射方法沉积 ．在反 沉积速率不高，但沉积 的薄膜具有表面平整、致 应溅射过程中，反应气体 的原子与从金属靶材表 密、精度高等优点，因此适用于制备高精度零件 面溅射 出来的原子发生反应 ，并在基片上形成化 的表面耐磨镀层．本文将深入研究采用射频反应 合物薄膜 ．例如在本文 中反应气体为氧气，沉积 溅射制备氧化铬薄膜过程 中的技术 问题及制备 薄膜为氧化铬 ．在薄膜形成的同时，反应气体原 薄膜 的性能． 子也会与靶材表面原子反应形成氧化物 ．当靶材 表面原子被溅射 出来的速率小于被氧化的速率 1 实验方法 时，靶材表面将形成氧化层 ，并且面积逐渐扩大．