感应耦合等离子休技术用于熔融石英表面凹凸光栅的刻蚀.pdfVIP

维普资讯 第41卷。第 ll期 激光与光电子学进展 Vo14．1．NO．11 NOV．2Oo4 2004年 11月 感应耦台等离子休技 用于熔融石英表面凹凸光枷的刻蚀 王顺权 周常河 茹华一 张妍妍 (中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 201800) 提 要 感应耦合等离子体(ICP)~Jt蚀技术是一种新的干法刻蚀技术，具有刻蚀速率高和各向异性刻蚀等优点，并且能够 独立控制等离子体密度和自偏置电压。然而 ，在利用这种技术进行刻蚀的过程中，经常会发生聚合物的沉积，从而阻碍了刻 蚀过程的继续。我们报道了在熔融石英表面刻蚀光栅时不产生聚合物沉积的技术，给出了优化参数。所制作的熔融石英普 通光栅和600线／mm的高密度光栅的表面很干净，没有聚合物沉积。光栅衍射效率的实际测量值和预期的理论值吻合得 很好 最后还研究了ICP技术的刻蚀速度，刻蚀均匀性和过程可重复性等参数。 关键词 感应耦合等离子体 熔融石英 光栅 聚合物沉积 EtchingaSurface-ReliefGratingnitoFusedSilicawithInductively CoupledPlasmaTechnology WANGShunquan ZHOU Changhe RUHuayi ZHANGYanyan (ShanghaiInstituteofOpticsandFineMechanics，TheChineseAcademyofScience,Shanghai201800) Abstract InductivelyCoupledPlasmatechnologyisanew dryetchingtechn oloyg． Ithas themeritsofhighetching rate，anisotropicetching，self-contronableplasmadensityatlow pressureandself—biasedvoltage．However，inhte etchingprocess．polymerdepositionthathindershteetchingprocessalwaystakesplace．Wereportna optimizedpro— cessforhteetclfingofa surface-refiefgratingnitofusedsilicawithoutpolmy erdeposition． Bothofhtefabricated fusedsilicagratingnadhtehigh-densiyt gratinghaveveryclena surfaces，nadnopolmy erdepositionhas beenofund onit．Experimentalresultsofhtediffractionofthefabricatedgratingsmatchwellwihthtehteoreticalresults．F．nally， wereporthteetchingrate，uniformiyt nadrepeaatbiliyt ofICPtechnoloyg ofrfabricationofmicroopticalelements． Keywords niductivelycoupledplasma fusedsilica gratings polmy erdeposition 1引言 化学的方法刻蚀固态物体表面的刻 损伤。由于有这些优点，感应耦合等 蚀方法。它主要包括了反应离子刻 离子体刻蚀技术用于高精度微光学 微光学技术为光学器件的设计 和性能优化提供了更大的空间。它能