电子束光刻技术与图形数据处理技术.pdfVIP

技术论坛 TechnologyF0rum 电子束光刻技术与图形数据处理技术 陈宝钦 (中国科学院 微 电子研究所 微细加工与纳米技术研究室，北京 100029) 摘要 ：介绍了微纳米加工领域的关键工艺技术—— 电子束光刻技术与 图形数据处理技术 ，包括 ： 电子束直写技术、电子束邻近效应校正技术、光学曝光系统与电子束曝光系统之间的匹配与混合 光刻技术、电子束曝光工艺技术、微光刻图形数据处理与数据转换技术以及电子柬邻近效应校正 图形数据处理技术。重点推荐应用于电子束光刻的几种常用抗蚀剂的主要工艺条件与参考值，同 时推荐 了可以在集成 电路版 图编辑软件 L—Edit中方便调用的应用于绘制含有任意角度单元图形 和任意函数 曲线的复杂图形编辑模块 。 关键词 ：电子束直写 (EBDW)；电子束邻近效应校正 (EPC)；匹配与混合光刻；图形数据处理 ； L-Edit图形编辑器 中图分类号：TN305．6；TN305．7 文献标识码：A 文章编号 ：1671—4776 (2011)06—0345—08 Electron Beam LithographyTechnologyandPattern DataProcessTechnology ChenBaoqin (Micro-Processing Nano—TechnologyLaboratory，InstituteofMicroelectronics (IMECAS)， ChineseAcademyofSciences，Beijing100029，China) Abstract：Thekeytechnologiesofthemicro／nano—fabrication，i．e．，electron-beam lithography technology andpattern dataprocesstechnologyarepresented，including electron—beam direct writing (EBDW ) technologyandelectron—beam proximityeffectcorrection (EPC)technology， mixandmatchtechniquesbetweenopticallithographysystem andelectron—-beam lithographysys·‘ tern ，electron—beam lithographyprocesstechnology，patterndataprocessandconversiontechno— logy in micro—lithography，electron—beam proximity effect correction in pattern dataprocess． Severalconventionalresistssuitableforelectron—beam lithographywith theirprocessspecifications andreferenceprocessdataarerecommendedespecially．Finally，theeditormoduletogeneratecomplicate patternscomposedwithinstancedcellsrepositionedatallanglesandfunctioncurvesarealsorecommen— ded，whichcanbeeasilycalledintheintegratedcircuitboardeditorsoftwareofL-Edit． Keywords：ele