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维普资讯
第34卷第2期 人 工 晶 体 学 报
2005年4月 JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTA1S
硬质合金 CVD金刚石涂层工具衬底前处理技术研究
来清民 ,张玉英 ,苗晋琦 ,唐伟忠 ,吕反修
(I.河南教育学院,郑州450014;2.中国地质大学,北京 100083;3.北京科技大学,-ILJ;~,100080)
摘要:本研究采用KOH:K[Fe(CN)]:HO和HSO:H!O:两种溶液浸蚀硬质合金衬底,分别选择刎蚀wC和co
并在浸蚀过的硬质合金衬底上,用强电流直流伸展电弧等离子体CVD法沉积金刚石涂层 研究表明,两步混合处
理法不仅可以有效的去除硬质合金基体表面的钴,而且,还可显著粗化硬质合金衬底。因此,提高_r金刚石薄膜的
质量和涂层的附着力。
关键词:硬质合金;两步法;表面前处理;金刚石涂层;附着力
中图分类号:0484 文献标识码:A 文章编号:1000—985X(2005)02-0374-06
A StudyofSurfacePretreatmentTechnologyonCementedCarbide
SubstratesforCVD DiamondCoating
LAIQing—min,ZHANGYu—ying,MIAOfin—qi。,TANGWei—zhong,LUFan—xiu
(1.HenanEdutatJonalCollege.Zhengzhou4500I4.China:
2.ChinaUniversityofGet)science,Beijing100083,China;3.Univeis.ityofScienceandlechnolog),Beijing,Beijing100080,China)
(Re(’eived6Detember2004.Ⅲ e1)ted24Decend~er2004)
Abstract:Twokindsofsolutions(KOH:K3[Fe(CN)6]:H2OandH2SO4:H2O2)wereutilizedtoetchthe
surfaceWCandCoonthecementedcarbidesubstrates.Diamondfilmsweredepositedbymeansofthe
highcurrentextendedDC arcplasmaCVDtechnique.Theresultsshow thatthetwo—stepmethodcan
effectivelyremove Co on the cemented carbide substratesand oh、,iously roughen the surfaceofthe
cementedcarbidesubstrate.Asaresult,boththequalityandtheadhesionofdiamondcoatingswere
improved.
Keywords:cementedcarbide;two—stepmethod;surfacepretreatment;diamondcoatings;adhesion
1 引 言
金刚石薄膜工具大多用硬质合金作衬底…,涂层厚度一般在3O m以下。因制作成本低,且可在复杂形
状工具上获得均匀涂层,因此,具有较好的市场应用前景。美国的SP3公司,德国的Cemecon公司,列之敦士
登的Balzers公司已使金刚石薄膜工具产业化。我国的许多大专院校和科研院所也在金刚石薄膜工具的研
发方面做了大量的工作,但成效不大 。
制约金刚石薄膜涂层工具走向市场化的关键问题是金刚石薄膜与衬底之间的附着力低 。困难来 自
于硬质合金的粘结相钴。钴在金刚石沉积过程中易引起碳的扩散与溶解,抑制金刚石形核及促进石墨生
长 ,使金刚石涂层附着力大大弱化。为去除表层钴,人们尝试了诸如准分子激
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