共沉淀法制备铋取代钇铁石榴石磁光薄膜研究.pdfVIP

浙江大学硕十研究生论文 第一章引言 在磁性物质，如顺磁性、铁磁性、反铁磁性和亚铁磁性物质的内部，具有原 子或离子磁矩。这些具有固有磁矩的物质在外磁场的作用下，电磁特性会发生变 化，因此使光波在其内部的传输特性也发乍变化，这种现象称为磁光效应 effect)。其巾最为人们所熟悉，亦最有用的是法拉第效应， (Magneto—optical 和克尔效应。 磁光材料是指从紫外到红外波段具有磁光效应的光信息功能材料，磁光器件 则是指用具有磁光效应的材料制作的各类光信息功能器件。这些期问广泛应用于 光通讯和光存储领域。1966年人们发明了磁光调制器、磁光开关、磁光隔离器、 磁光环行器、磁光旋转器、磁光相移器等磁光器件。随着光纤技术和集成光学的 发展，1972年起又诞生了波导型的集成磁光器件。1988年第一代磁光盘J下式面 世，它具有高纪录密度(107～1010bit／cm2)，可擦除重写等独特优点。在这些器 件的核心部分都是磁光材料，它的好坏直接决定着器件性能优劣。 石榴石是一种优异的磁光材料，它具有光吸收少、比法拉第旋转较大等优点， 而且物理化学性质稳定，所以成为主要的研究对象并已经实现商业化，其中钇铁 石榴石(YIG)是最常用、最典型的石榴石材料。单纯的YIG法拉第旋转角较小 未来光集成技术发展的要求。 经研究发现，通过对YIG进{j：掺杂可以很大地改善其磁光性能。当前效果 最好、最引人注目的就是BP掺杂系列，它大大提高了法拉第效应。但传统工艺 制备Bi—Y1G薄膜需要非常昂贵的GGG衬底，成本冈素限制这种优秀材料的实 用化。 本文采用共沉淀加旋转镀膜法、共沉淀加高温热解法、以及共沉淀加磁控溅 射法，成功在廉价的玻璃和石英衬底上生长了Bi．YIG薄膜，在获得良好磁光优 质的同时大大降低了Bi—YIG薄膜成本。 摘要 磁光记录是目前发展最完备的可擦除重写式光记录技术。从记录密度角度考 虑，由于光衍射的限制，最小记录尺、r与激光源的波长成正比。因此传统的磁光 记录介质一稀十金属与过渡组金属的合金就表现出局限性，因为这种材料在短波 长范围的磁光效应很小。而且在没有很好封装的情况下，它的化学稳定性很差。 铋取代钇铁石榴石在短波长范围有巨大的磁光效应，而且它的化学稳定性良好。 这种材料吸引人们的，。泛研究．并被看作最具前景的下一代磁光记录介质。 在本文的综述部分，茸先介绍了什么是磁光效应，并且总结了不同类别的磁 光材料。然后着重介绍了铁石榴石磁光材料的结构、磁学与磁光学性能、和它的 发展历程。接下来介绍了Bi—YIG材料在目前的应用，例如磁光隔离器、磁光 电流／磁场传感器和磁光记录等。最后比较了不同解释磁光现象的理论模型。 本文实验研究由以下四部分组成： 1． 共沉淀法制备Bi—YIG纳米颗粒。讨论了PH值、研磨时间和热处 理条件对Bi--YIG纳米颗粒结晶情况和晶粒尺寸的影响。 2． 共沉淀法加旋转镀膜法制备磁光复合薄膜。研究了热处理条件对薄 膜法拉第旋转角、散射系数和磁光优质的影响。在波长633nm的激 光下测量，最佳热处理条件下制备的薄膜的磁光优质可达4．7。。在 这一章中还介绍了磁光效应的测试方法。 3． 高温热解氧氧化物沉淀法制备Bi--YIG多晶薄膜。这是一种新发明 的制备Bi—Y1G多品薄膜方法。这种方法可以有效的把薄膜中晶粒 的尺寸降低到10-20nm。而且这种方法比传统的高温热解硝酸溶液 法在镀膜过程上也简单很多。 4． 磁控溅射Bi．YIG陶瓷靶材沉积Bi—YIG多晶薄膜。通过XRD图谱 的检测，所有衍射峰都指向石榴石相。扫描电镜显示Bi．YIG薄膜是 平整无裂纹的。因此可以认为这种新型靶材适合用于磁控溅射制备 Bi—YIG薄膜。 浙}上人学颁士研究牛论文 Abstract isthemost erasable data record