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摘 要
Film
薄膜晶体管(Thin1、ransistor的英文缩写是TFT)是近年来显示
silicon
器上广泛使用的器件,其中a—Si:HTFT(hydrogenated锄orphous
TFT非晶硅薄膜晶体管)是发展的主流,常用作有源矩阵液晶显示器
的开关元件。随着a—si:HTFT的广泛应用,其模型的建立就成为非常
重要的课题。精确的a_si:HTFT模型在sPIcE模拟中是非常重要的。
在国内外已经发表了许多关于a.si:HTFT物理特性及模型的文章,但
仍然不能满足今天先进LCD模拟的需要。
TFT-OLED
为配合国家十五”863”计划项目“高品质大尺寸a-Si:H
TFT
技术研究”工作,本论文重点进行了a—Si:H sPIcE模型的研究工
作。
本文以底栅结构背沟道阻挡型a.Si:HTFT器件为基础,测试了电
流电压(I—v)特性乖电容电压(c—v)特性。从电容电压曲线中提取了
a—si:H的掺杂浓度、固定电荷密度、界面态密度等工艺参数。分析了
a.si:H
TFT的局域态、亚闽值导电、泄漏电流、表面迁移率调制、栅
源和栅漏电容对频率的依赖性,温度特性及应力对阈值电压的影响。
本论文以MOsFET为模型基础,对I—v特性进行了理论分析,建立了
线性区、饱和区的漏极电流模型,重点建立了精确的亚阈值前区、亚
阈值后区漏极电流和截止区的泄漏电流模型。同时,本论文以MIs结
构的电容为理论基础,建立了a-si:HTFT的MIs结构依赖于偏压和频
率的电容模型,并提取了阈值电压VTo、迁移率“o等模型参数。用c
语言编程模拟了I.v和C.V特性,测试数据与模拟数据拟舍得很好,
TFT
优于以往的a_Si:HSPICE模型。本论文建立的模型适用于不同工
艺结构的a_si:HTFT器件,对TFT的设计者具有较高的指导价值。
TFT
关键词:a.Si:H SPICE模型I.V特性C—V特性
Abstract
Film usedfor mainTFT
TFT(ThinTraIlsistor)is、videlydiSplays.The
ofactivema打iX
isa_Si:HTFTwhichis device
switching liquidcrystal
Withthewide ofa.Sj:H establishmentofits
display applicationTFT,the
a for a_Si:HTFT
modelsbecomes study.Accurate
vervimportantquestion
modelsare forSPICEsimulators.Sevemlhave
required papers already
of
been me andthemodelsa.Si:HTFT’but
publishedregardingphvsics
LCD
出evareinsu街cientfortoday’sad瑚cedsimulations.
ThjsthesismainlvstudiedSPICE
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