计算机发展趋势探讨.docVIP

安阳师范学院学报 2000年 7o--1l， 3 计算机发展趋势探讨 李安伏。王国富 (安阳大学河南安阳455000) [摘要]丰文主要从制作德处理器芯片的光刻技术方面．分析了计算机擞处理器芯片目前的发展现状 及其进一步发展将要到难以逾越的限制，认为未来计算机的发展砖属于机理更新的范畴．祷告采用纳米电子 技术和并行技术．最终将朝着量子计算机方向发展。 妻 。 光源[中圈分类号]TP3的0 1 ．[文献标识码]．撕A 报术兰 生坚 计’ 聋1钆’ 旁 l 引言 计算机的性能主要取决于处理器芯片的运算 速度和内存容量的大小．而处理器芯片的运算速 度和内存容量的大小又主要决定于光刻技术中的 曝光光源的波长、光掩膜的精度及所用材料的特 性等因素。随着计算机性能的进一步提高，光刻 技术的限制将成为其前进道路上的难以逾越的障 碍．因此，未来计算机的发展将属于机理更新的范 畴。 2 微处理器的现状及发展的限制 微处理器从4004到80486，从Pentium—I 到目前发展最先进的Pentium一11I，其大幅度地 提高计算机的性能，基本上体现在缩小处理器芯 片内晶体管的尺寸和线宽这一方法上。如Inte1 的微处理器．在邮票大小的硅片上晶体管数量已 从其第一代4004型的2300只猛增到Pentium一 Ⅱ的750万只，性能也呈指数规律上升，从每秒执 行10，000条指令上升到250万条指令，代表当今 最高水平的干兆位Pentium一171I原型处理器速度 已达1002MHz．与此同时IBM 也在64位的Pow erPC上跑出了1100MHz的速度。缩小微处理器 内晶体管尺寸和线宽的基本方法在于改进光刻技 术，即使用更短波长的曝光光源，经掩膜曝光．把 刻蚀在硅片上的晶体管做得更小，连接晶体管的 导线做得更细来实现。目前使用的曝光光源主要 是uv(紫外线)，采用这种光刻技术生产的大多 数高级芯片的线宽仅0．25 m。随着超短波长 【收穆日期]1999一l1—15 uV曝光光源的采用．超亚微米光刻技术正在逐 步成熟．芯片的线宽正在下降到0 18～0 13~rn， 如Pentium一11I已动用0．18 m 技术来代替0， 25gm技术。 IBM 微电子硅技术部认为：现在使用的uv 光源对微处理器性能的进一步提高已无能为力 了。当线宽细到0．1Oftm 或更细时，芯片进一步 微型化将会遇到障碍，受到一些制约。首先是线 条宽度的限制，条宽接近或小于光的波长时，光刻 技术将面临失败；第二，电子行为的限制． 芯片 微处理器为例．它是通过逻辑“门”起开或关的作 用．开关状态，取决于有无电流；目前的微处理器 需使用数百个电子来开关逻辑门．随着芯片集成 度的进一步提高，所需的电子数会进一步提高，当 电子数减至几十个时，在判断“开”或“关”时，就会 处于模糊状态，这时逻辑门就会失去魅力；第三， “量子效应”的限制，线宽减至0．O5Ⅲ 时，量子效 应会使电子像幽灵一般捉摸不定．会导致不可能 的事情发生。 3 纳米电子技术及纳米计算机 突破上述限制的办法可以采用纳米级电子技 术。它是一种新的思维方式，不是单纯的尺寸减 小。IBM及其它一些公司正致力于用x一射线 作为曝光光源来研究纳米级电子技术；Bell实验 室研制的电子束光刻系统，经光掩膜来投射高能 电子，在实验室条件下制造出线宽仅0．059m 的 电路．而且还在继续开发0 01 m的电路。他们 最近宣称现已制造成比目前芯片内门极氧化物绝 维普资讯 李安伏，王国言：计算机发屉签 缘层薄5倍、仅3个原子厚的，0．06,urn 线宽仅由 182个原子组成的纳米级晶体管．它比目前芯片 内晶体管的体积小4倍，但运算速度快5倍，功耗 仅为1／60～11160，几乎不耗电。人们已发现碳 纳米管在常温下有极好的导电性．它的强度比石 墨高5～10倍，在重量与石墨相当时．强度却超出 钢5O倍．其直径只有人的头发丝的数千分之一， 目前这种材料较稀少，一旦能批量生产．就有可能 研制出纳米芯片代替硅芯片．它不仅体积小、功耗 低，而且速度快、存储量大。在一块方糖大小的体 积内，可存储1018字节的信息．相当于计算机每 秒可处理1016条指令．这就比今天的台式计算机 快10亿倍，也就是讲，纳米技术将给计算机制造 业带来深刻的变革，引发计算机行业的革命。 另外，为进一步提高微处理器性能，目前对制 作芯片的一些关键材料也进行了改进．如铜代替 铝，即在线路中用铜代替铝作连接晶体管的导线。 铜比铝导电性更好，能使数据传输速率更快，芯片 的体积更小．造价更低，跟铝的设计相比，微处理 器的性能可以提高20％ 一40％。据估计，如果将 铜技术引入Xeon服务器中，服务器性能将提高 40％。但是铜技术在适应硅芯片制造时还有一些 技术难题有待进一步解决