聚酰亚胺_氧化硅_氧化铝纳米杂化薄膜的制备及结构与性能研究.pdfVIP

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2017-09-02 发布于重庆
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聚酰亚胺_氧化硅_氧化铝纳米杂化薄膜的制备及结构与性能研究.pdf

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2005 No. 5 : / / 11 / / 1 1 1 2 王伟 , 刘立柱 , 杨阳 , 雷清泉 ( 1. , 150040; 2. , 150040) : - ( SiO 2) ( Al2O 3) , , (PI) / SiO 2/ Al2O3 , , S iO2 Al2O 3 , ; ; : ; ; ; - ; :TM 215. 3; T Q 323. 7 : A : 1009- 9239( 2005) 05- 0011- 04 The re arationstructure and character of p p ol imide/silica/ alumina h brid films p y y 1 1 1 2 WANG Wei , LIU Li_zhu , YANG Yang , LEI Qing_quan (1 . M a ter ia ls S cie nce E ng i neer i ng Coll ege , H ar bin Un iv . S ci . T ech , ha r bi n 150040, Ch i na; 2 . E lec tr ica l E lect ron ic E ng in eer i ng Col leg e , H a rbi n Un iv . S ci . T ech ., H ar bi n 150040 , Ch in a ) Abstract: In thi a er, nano ol imide/ ilica/ alumina h brid film are re ared b ol_ el method. p p p y y p p y g The tructure, micro_morphology, thermal propertie , and dielectric propertie of the film are characterized b FTIR, AFM, TGA and reci ion im edance anal zer. The re ult indicate that SiO2 y p p y and Al O article are well di er ed in PI h brid film with nanometer and there are chemical 2 3 p p y bond between or anic and inor anic ha e; The thermo_decom o ed tem erature i increa ed after g g p p p appending SiO2 and Al2O3 particle ; the dielectric con tant i increa ed with content of inorganic pha e increa ing. Ke words: ol imide; ilica; alumina; ol_ el method; h brid film y p y