CuCr合金催化剂制备条件对大电流CNTs阴极的影响.pdfVIP

维普资讯 第 22卷 第 6期 液 晶 与 显 示 V0i．22．NO．6 2007年 l2月 ChineseJournalofLiquidCrystalsandDisplays Dec．，2007 文章编号：1007—2780(2OO7)O6—0708—06 CuCr合金催化剂制备条件对大电流CNTs阴极的影响 张哲娟，张燕萍，高 阳，褚家宝，孙 卓 ，冯 涛，陈奕卫， (华东师范大学 纳光 电集成与先进装备教育部7-程研究中心，上海 200062) 摘 要 ：通过改变溅射功率 以磁控溅射法制备 了Cu／Cr合金催化剂 ，研究了化学气相沉积法 制备的碳纳米管(CNTs)作为大电流密度场发射阴极的场发射性能。采用扫描 电镜和场发射 测试仪分别对不同功率催化剂制备的CNTs进行 了形貌及性能分析 。结果表明，根据溅射功 率与催化剂颗粒 的关系，可 以通过调节溅射功率改变 CNTs的长径 比及密度 ，在 250W Cu／Cr催化剂制备的CNTs薄膜具备 了良好 的场发射性能，阴极 电子发射 的开启 电场仅为 1．47V／m，当电场为 3．23V／m，发射 电流密度可高达 3259t~A／cm。。 关 键 词 ：碳纳米管；CuCr催化剂 ；大 电流密度 中图分类号 ：TN383、1 文献标识码 ：A 研究采用磁控共溅射制得了Cu／Cr合金催化剂， 1 引 言 通过改变溅射功率控制 Cu在催化剂 中的配 比， 碳纳米管 (CNTs)是一种新型碳材料，自从 分别用不同制备功率的Cu／Cr合金催化剂通过 1991年发现 以来 ，以它独特 的结构和特有的物 CVD法制备 CNTs，并借助扫描 电镜 (SEM)、场 理 、化学性质及其在高科技领域中许多潜在 的应 发射测试 (J-V特性)等检测手段研究了催化剂的 用价值，迅速地在世界范围内掀起 了CNTs的研 制备功率对 CNTs制备及场发射性能的影响。 究热潮[1]。在短短几年 内科学家们 已发明了多 2 实 验 种制备 CNTs的方法 ，其 中化学气 相沉积法 (CVD)因设备简单 ，成本低 ，反应过程容 易控制 2．1 催化剂的制备 且产量高等优势 ，成为实验和生产中制备 CNTs 以玻璃为衬底 ，通入氩气 (Ar)为载气 ，气压 的主流方法 [3]。 为 lPa，先用磁控溅射法制备铬 (Cr)金属层作为 在 CVD法中，影响 CNTs生长 的因素很多， 过渡层 ，防止生长过程中铜扩散进入玻璃 ，溅射功 其中主要影响因素是催化剂。催化剂作为碳源分 率为 5Ow，溅射时间为 6min。然后 ，用共溅射 解活性中心以及石墨碳沉积中心，对裂解产物 的 方法制备铜铬 (Cu／Cr)合金，溅射气压为 0．5Pa， 形貌和结构起着至关重要 的作用[4叫 。同时也 Cr的溅射功率保持为 5Ow，铜的溅射功率分别 是 CNTs生长的成核 中心和能量输运者，它的选 为 100W、150W 、200W 、250W、300W 和 350W， 取、制备 以及载体的选取也将对 CNTs的成核、 共溅射时间分别为 6min、5min、4min、2．5min、 生长速率 、密度 、分离 、纯化等有很大影响，将导致 2min和 1min。制备样品的薄膜厚度 由表面轮 CNTs具有不同的形貌和结构 ，是 CNTs制备 中 廓仪 (VeecoDektak6M)测得 ，薄