高能闪光照相中钨球散射规律研究.pdfVIP

　第 16 卷 　第 4 期 强 激 光 与 粒 子 束 Vol. 16 ,No. 4 　 　2004 年 4 月 HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS Apr. ,2004 　 ( ) 文章编号 : 2004 高能闪光照相中钨球散射规律研究 施将君 , 　李必勇 , 　宗 　嵩 , 　刘 　军 , 　刘 　进 ( 中国工程物理研究院 流体物理研究所, 四川 绵阳 621900) 　　摘 　要 : 　用解析法和 MonteCarlo 法研究了钨球闪光 X 光照相的散射照射量空间分布随钨球半径、系统 中元件构成以及保护器件与记录平面间距的变化规律。指出散射照射量的空间分布是不均匀的 ,它随球半径 增加而变大 ;保护器件是散射照射量的主要来源 ,增加从保护器件到记录平面的距离 ,可以降低散射分布不均 匀性 , 以及有效地减少散射。 　　关键词 : 　钨球 ; 　保护器件 ; 　散射照射量 ; 　直散比 ; 　散射分布不均匀性 　　中图分类号 : 　O434. 1 　　　　文献标识码 : 　A 　　高能闪光照相的光子具有 MeV 级能量。光子与物质的相互作用时发生康普顿散射、电子对生成和湮灭或 其它散射效应 ,形成散射照射量 ,其中 ,一个很重要的物理量是照射量的直散比 R ds ( i) , 即成像照射量的直穿 成分 X d ( i) 与散射成分 X s ( i) 之比值 ,定义为 ( ) ( ) ( ) ( ) R ds i ≡X d i / X s i 1 式中 : i 特指像素序号 ;下标 d 与 s 分别表明成像照射量的直穿成分和散射成分。直散比直接衡量像质的好坏 ; 它的值越大 ,像质就越好。对于诊断最深穿透信号的品质 ,所对应成像点的 R ds ( i) 值更为人们所关心的。若 不特别说明 ,下文的直散比 R ds专指最深穿透信号所对应成像点之值。 ( ) [1 ,2 ] 　　本文用解析方法和蒙特卡洛 MC 方法 研究钨球的散射规律和相关的直散比 ,可以大体上对一般客体 的散射规律有定性了解。 1 　照相系统布局和钨球结构 ( 　　系统布局类似于在美国卫生研究所 NIH 对 FTO 客体 French Test Object) 闪光照相情况[3 ,4 ] 。钨球层的内半径固定为0. 5cm ,外半 ( ) θ 径 r 可变 见图 1 。系统主准直角 0 等于原点对钨球所张圆锥的锥 半角 , θ与 r 的关系见表 1 。 0 　　照相距离 Df 是从源到记录平面的距离 ,它等于源物距 Z s 和物 像距 Zf 之和。从原点引出、与钨球内中空球相切的直线就是最深穿 Fig. 1 　Tungsten sphere configuration 透的路径 ,它在记录平面投射点上的信息倍受关注。