离子液体[EMIM][PF6】负载纳米SiOx表面的熔点及结构.pdfVIP

物理化学学~(WuliHuaxueXuebao1 July ActaP C·him．Sin．2011，27(7)，1725—1729 1725 A【rticle】 www．whxb．pku．edu．cn 离子液体[EMIM][PF6】负载纳米SiOx表面的熔点及结构 刘玉胜 付海英 唐忠锋 黄 卫’ 吴国忠 (中国科学院上海应用物理研究所，上海210800； 徐州工程学院，江苏徐州221000) 摘要： 制备了离子液体(1一乙基一3-甲綦咪哗八氟磷酸 E【MIMI[PF。】)负载量不问的多孔纳米氧化硅(SiO)，并采 ，}【j差式 描量热分析(DSC)、×射线衍射(XRD)、激光Raman光谱、傅早叶变换~#I-(FTIR)光谱分析等手段研究 离了液体负载纳米氧化硅后的熔点变化及桐行为．研究表明负载 J纳米氧化碓表面的离子液体熔点明显下降， }I_负载于 同 l 含量的氧化硅表面熔点下降幅度 同．纯离子液体[EMIMI[PF。1熔点为62。C，存纳米氧 化硅表面负载量为35％时熔点为52。C，比负载前下降1O。C：负载于另两种不 同 基含量的纳米氧化砖表面 后熔点分别F降2O和 17。C． 同一种纳米氧化硅 (比表面 为640m ·g-,) 负载量小于50％时，熔点下降明 显：进 一步增人负载 ，熔点逐渐趋于小体．XRD和Raman光谱分析显示，离子液体负载 f氰化硅表面后其衍 射峰或吸收峰十f1对强度发q三明显改变．分析负载前后纳米氧化硅的结构变化，推断离子液体熔点下降的主要原 是离子液体分子与纳米氧化硅表阳之间存在强烈的界面相瓦作朋，而表面羟基 的密度及比衷哳积足影响负 载后[EMIM][PF。】离子液体相行为的主要冈素． 关键词： 纳米SiO；离子液体：熔点：相变 中图分类号：0647 MeltingPointandStructureofIonicLiquidE【MIM][PF6】onthe SurfaceofNano-SiO Particles LIUYu—Sheng’- FUHai-Ying’ TANG Zhong-Feng’ HUANGW ei’ WU Guo—Zhong’， tShanghaiIn9titute AppliedPD3sicsChineseAcademy0S『cienc’esShanghai210800,PR．China； !XuzhouInstituteofTechlmlogy,Xuzhou221000，JiangsuProvince， R．China1 Abstract： The1一ethyl一3一methyIimidazolium hexafIuorophosphateionicIiquid(rEMlM1P『F4)wasabsorbed ontothesurfacesofseveraIkindsofnano．SiO particlesbymechanicalgrindingusinganagatemortar． ThesampleswereinvestigatedbydifferentiaIscanningcalorimetry(DSC)，Ramanspectroscopv．Fourier transform infrared(FTIR)spectr0scopy，andX—raydiffraction(XRD)．Wefoundthatthemeltingpointofthe E『MIM1fPF61adsorbedonthesu ceofnano—SiO wassignificantlyIessthanthatofthebulkionicIiquid