基于初次电流分布的电解微刻蚀均匀性研究.pdfVIP

《电加工与模具)2014年第3期 设计 ·研 究 基于初次电流分布的电解微刻蚀均匀性研究 韦鸿钰 ，郭钟宁 ，王 冠 。 (1．仲恺农业工程学院机电工程学院，广东广州 510225； 2．广东工业大学机电工程学院，广东广州 510006) 摘要：在 电解刻蚀中，阳极表面的电流密度由装置的几何尺寸、加工参数、极化情况等决定，其 中，几何要素决定加工间隙的初次电流密度分布，主要影响刻蚀结果。采用有限单元法数值模拟不 同尺寸阴极、辅助 电极、加工间隙等对加工区域初次电流分布的影响，确定了均匀性随各几何因素 的变化趋势。 关键词 ：电解微刻蚀 ；电流密度 ；均匀性 中图分类号 ：TG662 文献标识码 ：A 文章编号 ：1009—279X(2014)03—0048—03 ResearchonElectrochemicalM icro-etchingUniformityBasedontheFirstCurrentDistribution WeiHongyu ，GuoZhongning2，W angGuan (1．ZhongkaiUniversityofAgricultureandEngineering，Guangzhou510225，China； 2．GuangdongUniversityofTechnology，Guangzhou510006，China) Abstract：In electrolyticetching，thecurrentdensityattheanodesurface isdeterminedby the geometryoftheapparatus，processingpraametersandpolarizationconditionsetc．．Geometricelements detemr inetheinitialcurrentdensitydistribution inmachininggap，whichmainlyaffectstheetching results．Numericalsimulationoffiniteelementmethodisusedtostudytheeffectsofdifferentsizesof cathode，auxiliary electrode and machining gap on the initialcurrentdensity distribution，and the variabletendencyofunifomr itywithvariousgeometrical factorsisattained． Keywords：electrochemical micro-etching；currentdensity；unifomr ity 电解微刻蚀是在 电解加工与光刻技术 的基础 电极可改善加工区域的电场分布嘲。电解刻蚀装置 上发展起来 的新的微细加工技术 ．是基于光刻工艺 的几何尺寸往往需通过实验选取 。费时费力。而采 和电化学阳极溶解 的原理 。利用光刻胶在待加工工 用有限单元法数值模拟加工区域的电场分布，分析 件表面制备所需图案的遮蔽层 。然后采用 电解方法 不同几何要素对加工区域电流密度分布的影响。将 去除未被保护的材脊斗-【21。电解刻蚀工艺与化学刻蚀 为电解刻蚀装置及辅助 电极设计提供理论指导。 工艺类似 ，不 同的是化学刻蚀采用强腐蚀性刻蚀 l 电解刻蚀装置 电场分布 剂 ，且反应不易控制 ：而电解刻蚀所采用的电解液 是中性 的盐溶液 。且反应可通过阴阳极间的电场来 图 1a是典型的电解刻蚀装置结构剖面 图．图 控制 。 中的细实线为加工 区