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·350 E纳米薄膜及表面技术
电沉积Ni一20％Fe纳米磁性薄膜性能的研究
刘天成。孙克李德仁卢志超
(钢铁研究总院安泰科技股份有限公司 北京100081)
Oilthe ofNi-20％FeNanometer
Study Properties Magnetic
FilmMeansof
by Eleetrodeposition
Liu SunKeLi])erenLuZhichao
Tiancheng
and
(CentralofIrodandSteelResearchInstitute，
and
Advanced Materials
Technology Co．，Ltd．，Beijing，100081)
摘要纳米晶材料电沉积是在传统电沉积工艺的基础上，通过控制适当的工艺
条件，最终获得具有各种性能的薄膜材料的过程。采用电沉积方法制备Ni一20％
K磁性合金薄膜，通过扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的表面形貌进行观察，并且
对样品做了透射电子显微镜(TEM)观察，同时分别对薄膜样品进行了x射鳗衍射
分析(XRD)和差热分析(DTA)，以及磁滞回线的测量。实验结果表明：电沉积方
法制备的Ni-20％№合金薄膜表面光亮、致密，外观平整、成分均匀。薄膜中Ni—Fe
金属间化合物的粒子尺寸在30I]ITi左右，得到了很好的纳米薄膜，并且制备的纳米
薄膜具有优良的软磁性能，矫顽力达到21A／m。
性能
关键词 纳米薄膜 电沉积 Ni—Fe合金磁性薄膜
isa in
for nmteri,ds
AbstractThe rmnocrystalline process
electrcr!epotitingtechnologypreparing
fihnswith excdlent
whichsuitable conditionswerecontrolled，andnanocry．stallinenlaay
teclmological
obtainedfilmhasbeenstudie[1 Electron
wele The usingScantfiag Microsoope(SEM)，
properties
thermal
TransmissionElectron Diffraction(XRD)，Differentialana[ysis
Microscope(7IEM)，X—ray
has and
s。on．There．milsshowthattheNi．20％icefilm surfa‘．e，refininggrain
(DTA)and brlght
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