Ti掺杂纳米复合类金刚石涂层的摩擦磨损与抗水蚀性能的研究.pdfVIP

2006全国荷电粒子源粒子束学术会议文集 -Ii掺杂纳米复合类金刚石涂层的摩擦磨损和抗水蚀性能的研究 黄志宏，杨兵，刘传胜，郭立平，范湘军，付德君 (武汉大学物理科学与技术学院加速器实验室， 湖北武汉430072) 摘要·利用改进型闭合场孪生非平衡中频磁控系统在基体温度低于100(2的条件下沉积了 Ti掺杂类金刚石纳米复合涂层。研究了不同偏压和Ti靶电流对涂层的结构，摩擦 磨损性能和抗水蚀性能的影响，结果表明在IOOV偏压，Ti靶电流4A时制得的Ti-DLC 复合涂层有良好的附着力和很高的硬度，优良的摩擦磨损性能和抗水蚀性。 关键词·类金刚石；纳米复合涂层；中频磁控溅射；摩擦磨损；水蚀 l引言 金属掺杂类金刚石(Me—DLC)复合膜因其优异的力学性能己成为多年来研究的热点uql，通常的 方法是用石墨靶和金属靶，采用闭合场非平衡直流磁控溅射系统在Ar等离子体中溅射沉积H咽。 但是，这种方法的稳定性、制备涂层的均匀性、附着力和可重复性都不能令人满意。近年发展起 来的中频溅射技术具有更高的靶材利用率和等离子体密度、更快的沉积速度、能生产更优质的涂 层，已被成功地用于刀具涂层和光学涂层睁耵。 高速水流产生“水锤”压力，这种压力是大量的涡轮叶片达不到使用寿命的一个重要原因州副。 研究表明，界面可引起应力释放和转移，这意味着有更多界面的材料有更高的抗冲击能力“p删。 当金属含量达到一定浓度时，在Me-DLC涂层中容易形成纳米晶，能形成很多界面。本文报导用 中频磁控系统中沉积Me—DLC复合膜，研究在不同工艺条件下涂层的摩擦磨损性能和抗水蚀性。 2实验部分 2．1样品制备 X 实验用沉积系统如图1，真空室尺寸为由1000mm 磁控靶，其中三对为Ti靶，一对为C靶。靶由40KHz的中频电源供电，C靶的输入功率固定为 12KW，改变Ti靶的输入功率以制备不同含Ti量的涂层。基片装在内外靶之间的旋转样品架上， 为了保证涂层的均匀性，样品架有三种旋转方式：绕真空室中心公转、自转、样品自转。真空室 本底真空为7X 基片为硬质合金和2Crl3钢，沉积过积中不加热。真空室温度低于100℃。整个镀膜过程包括15 分钟的Ti过渡层和2个小时的Ti-DLC复合层。 2．2测试方法 度约1u 子衍射的照相参数采用单晶Si的衍射花样校正。用MTS纳米硬度计测试涂层的硬度和弹性模量。 用划痕仪测附着力，用MS_T3000球一平面实验设备测试涂层的摩擦磨损性能，测量环境温度23 ℃，相对湿度60％，对磨球为直径6mm的碳化钨一钴，载荷5N，平均摩擦速度0．02m／s，测试时问 形貌仪测涂层的平均损坏深度(ADD)，用SEM观察涂层的失效形貌。 3结果与讨论 图3a和C为Ti-DLC涂层的拉曼光谱，偏压从O增加到lOOV时刀峰强度下降，表明涂层中 sp2C的含量减少。通过高斯曲线拟合发现，当偏压从O增加到200Y时G峰与刀峰强度比值(ID／Ic) C成健，导 减小n倒，当偏压超过IOOV时，ID／Ic的增加是由于高能离子轰击基体表面，促进sp2 加。变化趋势说明由于涂层中金属的掺入减小了sp2C团簇的尺寸n¨，这与AFM的观察结果一致。 2006全国荷电粒子源粒子束学术会议文集 图4为涂层的微观结构，当Ti靶电流低于4A时只有一个透射斑。随着Ti含量的增加出现 晶体衍射环，说明涂层中形成了纳米晶。图4b和C基本相同，随着Ti含量增加，涂层中并没有 出现TiC相，Ti原子倾向于形成Ti纳米晶而非TiC，可能的原因是基体温度低于TiC的形成温 度。高分辨照片(图4d-e)显示Ti纳米晶包含在无定型C基体中，界面完整，没有明显的缺陷。 平均粒径从Ti靶电流4A时的10iim到减小15A时的6nm。 划痕测试表明涂层有很好的附着力，临界载荷大于50N。硬度、摩擦系数、磨损率与Ti靶电 的27GPa。由TEM结果可知，硬度增强对应于Ti纳米晶粒径减小和密度增大，这是典型的晶界滑 移的结果u町。在100V偏压下，涂层的摩擦系数首先从Ti靶电流为2A时的0．16下降到4A时的 接近于Ti的性能，有较高的摩擦系数。Ti靶电流低于4A时涂层有较低的摩损