Si基底上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜的研究.pdfVIP

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2017-08-20 发布于湖北
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Si基底上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜的研究.pdf

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Si基底上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜的研究.pdf

RareMetalMaterialsandEngineering Availableonlineatwww．sciencedirect．corn Volume43，Issue12，December2014 嘲～ OnlineEnglisheditionoftheChineselanguagejournal 辩 ScienceDirect DirectElectrodeposition ofFe-NiAlloy Films on Silicon Substrate LiuYichun， ZhangJiamin， YanJikang， DuJinghong， GanGuoyou， YiJianhong KunmingUniversityofScienceandTechnology,Kunming650093,Chma Abstract：ThedirectelectroplatingofFe·Nialloyfilmsonto(100)n—typeSisubstrateswereconducted．Theelec打odeposition phases，thefilm structureandtheperformancewereinvestigated．Theresultsshowhtatwhenhtem~-rentdensityisabove1．0A／dm2 ， continuousfilmsareformedand show an anomalousco-depositionprogressOccurs．When filmsarepreparedwiththecurrent densityfrom 1．0to4．0A／dm thenickelcompositioncanbeadjustedfrom45％to78％ (massrfaction)，andthecorresponding currentefficienciesarerfom about60％ to66％．Thefilmsconsistingof10-30nm nanocrystallitesshow thefccstructureofsolid solutionofFe-Ni．Themagnetichystersisloopsofthealloyfilmsexhibitahighersaturationmagnetizationandaverylowcoercive filedapproachingzero，indicatingthatnanosizedalloyfilmshavevery goodsoftmagneticperformance． Keywords：Fe—Nialloyfilm；electrodepositing；siliconsubstrate；magneticproperties Becauseofgoodmagneticperformanceandlow thermal increasingchanceofcoalescenceofthenuclei，thenresulting expansion coefficient．Fe—Nialloysarewidelyused inthe inthefomr ationofacontinuousfilmj【J_Fe．Nialloyfilmswith electronic industry,aerospaceindustry,mechani