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第25卷第4期 声学技术 、,01.25,No.4Pt.2
2006年8月 TechnicalAcoustics Aug.,2006
i i
Nb03和L
黑色L Ta03晶片SAW器件研究
夏宗仁,贝伟斌,崔坤,秦晓勇,吴剑波,朱怀烈
《中电辩技德清华莹电子有隈袋司,濒汪缝演313216—xzr@dqhua—ying,com)
摘幕采用化学筑原工艺成功地制备了LN和LT黑色晶片.在这毖黑色晶片上制作了中心频串分别为36M}Iz和
446MHz斡SAW器传。研究表明,黑片工艺显著降低了晶片表面的静电,增加了避紫外光吸收,而其他性能不受
锤留影嚷,旋SAW器箨秘终测合霉参率蓰高了5-10jI.
关镳词:铌酸锂,钽酸锂,低静电,晶片,声表面波器件
ofSAW
Fabricationand devicesonLNandLTblack
performance
wafers
Xia weibin,CuiKun,Qin Huailie
ZongReIl,Bei Xiaoyong,WuJiangbo,Zhu
Electronic
(DeqingHuaying Co.,Ltd,CETC,Deqing313216,Zhejiang,China)
Abstract: black and waferswere chemical
LiRl03 by
Free-pyroLlNIK)3 preparedsuccessfully
werefabricatedonthese wafers.
reduction.Surfaceacoustic black
wave(SAW)devices
Performanceof毽K啾devicesshowedthat werereducedduetothe
pyroelectriccharges
of wafersandnear-ultraviolet wasincreased.
black
higherconductivity liegatabsorption
Therefore.thefmaltest ofSAWdevicesWasincreased5。10%.
yield
device
Keywords:LiNb03,LiTa03。pyro-free,wafer,SAW
1.引言
铌酸锂(L娃婚03酆田和钽酸锂(LiTa03;LT)晶体具有优异的压电、热电、光电等性能,是十分
重要的多功麓藩终枋料。尽管莓蓠80%汉上觞声表面波(s轰W)器件使用LN、LT作基片,毽
LN、LT晶体的光透过性和高热释电等性能却对一些类型SAW器件制作工艺带来困难,如窄孔
23x10SC/m2*K,毫热释电系数易烧毁叉指电极,绝缘电阻下降,因此大大增加了器件的次晶率
B-3]。在传统压电鑫片上进行光捌工艺对,材料的透光魏导致晶片背谣形成漫散射,从而降低了
光刻电路的衬度,导致不合格的线宽。针对SAW器件制作中存在的这些问题,
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