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直流磁控溅射沉积Fe-N薄膜的
结构及磁性研究
王丽丽o①② 郑伟涛① 王 欣① 马 楠①
(①吉林大学材料科学学院长春130012)
(②长春大学应用理学院长春130022)
Thin
of Nitride
Structuraland Iron
MagneticProperties
Films dc Sputtering
Depositedby Magnetron
Xin①MaNan①
Weitao①Wang
WangLili①②Zheng
of
Materials
(①DepartmentScience，JilinUniversity，Changchun，130012)
of
ApplyScience，Changchun
((2)Department
摘要【本文采用直流磁控溅射方法，以Ar／N：作为放电气体，在玻璃衬底上沉积
了1’Fe。N单相薄膜。利用x射线衍射(XRD)和超导量子干涉仪(SQUID)研究了
不同溅射时间对薄膜的结构及磁性性能的影响。结果表明具有铁磁性能的
3-Fe。N单相薄膜饱和磁化强度随溅射时间没有发生明显变化，矫顽力随溅射时间
的增加，即薄膜厚度的增加而显著增大。，
关键词Fe—N薄膜结构饱和磁化强度矫顽力
dc
Ab=racI thinfilmswere On sabstrates
glass by magnetronsputte‘
1’-Fe4Nsingle·phase deposited
of
and thefirmswerecharacterized
mixture．Thestructural
magnetic
ringusingⅢlAr／N2gas properties
interference W88
diffraction(XRD)andquantum device(SQUID)．It
byX-ray superconducting
obvi—
showedsaturation of didn’t WSSincreased
magnetizations Fe4N change，coercivity
single—phase
with thethicknessofthefdm8
ously increasing
Fe—N
thin
Key
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