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震爨静GaNAs秘GalnNAs景予阱结梅奉手料鞠嚣件的研究缩巢,主簧有辩下:
予;l入兹蔫子按爨是影响毒事辩骥量提褰的关键”’。我们提出丁利用磁场驱除氮
离子的方法,商效她柳制了外殛屡的离子损伤从而获得高质量GaNAs量子阱结构
的材辩,其中N的缢分可商这5%,低温光荧光谱的波长为1.21”m..我们对
鹣魏琴采趱磁场驻除离子生长熬撰器魏蜂擅强度摄裹了15偿,半蠛竟(F嬲M)
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获得了室溢1.30鲫B凌光发射渡长。箕串酶宽(FWHM)夺于50meV.为成功研
懿长波长GalnNAa璧孑氍数滗嚣窝臻溺器奠定了纂毯。
原子,获樽了N表面分凝长度与温度的依赖关系。我们的理论模型与实验结巢符
·446·
合得很好,并得到国际学术界的诊,可和引用。
(4)我们研究了快速热退火(RTA)对GalnNAs材料光学质量的影响,深入分析了低
温(LT)和高温(肿)RTA,引起量子阱的PL谱的峰值波长蓝移和质量提高的不
同物理机制“)。我们研究结果表明,LT-RTA处理的样品质量提高和峰值波长蓝
移(约8nm)较少,其主要原因是由于Ga—In在量子阱界面的互扩散;HT—
RTA处理的样品质量提高和峰值波长蓝移(约28nm)较大,原因是除Ga—In在
量子阱界面的互扩散外,N—As的互扩散将起主导作用。引入磁场,离子损伤
映陷的抑制,将有效地减少上述两种互扩散,从而显著地缩少PL谱的峰值波长
蓝移。
(5)我们成功地研制了GaitS/As/GaAs量子阱激光器,其室温脉冲工作波长为1.28u
III,阚值电流为200 20u
mA:其室温连续工作波长为1 m,阈值密度电流为950
A/cm2,工作温度可高达100oC,在工作温度低于75。C,器件的特征温度(T。)
高达115K‘”.
其工作波长为1.30uIn,峰的FWHM为4lllfl:在偏压为0至6伏时,暗电流为20
至32
pa;击穿电压为一18伏;高频响应特性在3dB带宽为308MHz,影响高
频响应特性提高的主要因素是p-DBR阻抗过大。
参考文献
l 林耀望,潘钟,李联合,张伟,王学宇, 《光电子技术与信息》, 2000年第13
卷
第4期第1页。
2.YW Lin,ZPan.L.H.Li,Z.Q.Zhou,HW
Wang.andZhangThinSolidFilm
368(2000)249.
3李联合,潘钟,张伟,林耀望,王学宇,吴荣汉,《半导体学报》(英文版)22(2000)
31
4·ZhongPan,Lianhe
Li,
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