化学镀锡层孔隙率的研究.pdfVIP

下载本文档

28
0
约6.36千字
约 3页
2017-08-16 发布于安徽
举报
版权申诉

化学镀锡层孔隙率的研究.pdf

1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

天津市电镀I程学会第九届学术年会论文集化学镀锡层孔隙率研究徐瑞东，郭忠诚，薛方勤，王军丽 (昆明理工大学材料与冶金工程学院，云南昆明 650093) 摘要：主要研究了沉积时间、镀液温度、pH值、镀层厚度及主盐浓度对化学镀锡层孔隙率的影响。结果表明：镀层孔隙率随沉积时间和镀层厚度的增加而降低，随镀液温度的升高而增加；氧化亚锡质量浓度为20 g／L时，孔隙率最高，pH值为1．3～2．8时，孔隙率变化不大。关■词：化学镀；拐棱屡l孔隙率 of on ElectrolessTin StudyPorosity PlatingCoatings XU Jun—li Rui—dong，GUOZhong—cheng，XUEFang—qin，WANG ofMaterialsand ofScienceand (Faculty Metallurgical University Engineering，Kumming Technology 650093，China) Kumming of and concentration of time，bath value，thickness Abstract：Effects SnCl2 plating temperature，pH coatings the isdecreasedwiththeincreasein on oftin werestudied．Resultsshowthat pOrosity porositycoatings plating time ofthe is asthebath rises．The isthe andthickness increased coatmg，and temperatureporosityhighest when the when little vlaueof bathis theconcentrationofstannouschbrMeisat20g／L，andchanges pH between1．3and2．8． words：electroless Key coatings；pOrosity plating，tin 1前育 2实验方法化学镀锡层孔隙是指锡镀层表面至基体金属的 2．1赣液组成及工艺条件细小孔道，是体现锡镀层表面致密程度的主要指标 SnCl2·2H20 20～30 g／L 之一，孔隙率的产生主要是由于大量析氢并吸附聚