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影响产生均匀等离子体状态的几个因 素的研究 许琰蓝可赖东显冯庭桂 北京应用物理与计算数学研究所100088 摘要：用数值模拟方法研究利用辐射加热来产生均匀等离子体状态．它可被用来测量 元素的辐射不透明度，校验辐射不透明度理论。本文研究了在辐射加热铁的“三明治”型 靶时影响生成均匀等高子体状卷的几个重要因素(样品厚度、cH膜厚度和辐射源)所起的 作用．我们发现，铁样品的厚度不能太厚．产生的铁等离子体尺度必与此时的传热距离差 不多．铁等离子体才能通过热传导达到均匀状态；低z介质cH膜对铁等离子体有明显的箍 柬作用，在同一辐射源条件下．调整CH膜的厚度可以调节所产生的等离子体状态：调整不 同方向上的cH膜厚度．可以控制铁等离子体的膨胀方向．使它尽可能地达到…维膨胀，使 得反推出的等离子体密度可以更加准确；样品的种类、厚度以及外面的低Z介质厚度决定 了在某时刻能获得的等离子体状态，以及为产生此等离子体状态所需的最低辐射能。 关键词：辐射加热、均匀等离子体状态、数值模拟 一． 引言 辐射不透明度是高温物理的重要参数之一，有重要的物理意义和广泛的应用背景， 计算辐射不适明度的原子参数理论使用了大量的假设和近似，其精确程度和适用范围都有 待于实验的检验。在实验室中测量高温等离子体的辐射不透明度是我国和国际上的重要研 究目标。国际上己开展了大量的理论和实验的研究工作，取得了卓有成效的研究结果。由 于在实验室中产生的高温等离子体持续时间短，涉 及的物理现象众多，如何产生对测量辐射不透明度 有意义的缓变的均匀LTE等离子体状态是研究工作 的难点，源和靶的设计是实验成功的决定因素。 目前国际上通过测量背光通过高温均匀等 离子体的吸收谱来给出物质的辐射不透明度，通常 使用的样品靶为三明治型，中z介质填塞在低z介质 层中。这使得中z介质可以被X光进行体加热．同时 低z介质抑制样品膨胀，结果是靶被整体加热，没 有冲击波进入样品，同时减少样品中的温度和密度 塑翼：。翼堂譬塑霆妻曼!璺：翼要：。。翌砦挈：!曼} 图l：铁三明治型样品靶示意图 需要研究多厚的低z介质可以有效地抑制中z介质 …一……………一 膨胀．产生的等离子体的温度、密度的均匀程度及 其随时间的演化，以及所需的辐射源的大小。本文将利用一维辐射输运程序RDMG来数值模 拟辐射烧蚀铁三明治型样品靶．在塑料薄膜(cH膜)中放置铁样品，探索缓变的均匀等离 子体状态的产生规律。 一305— 二． 计算结果和讨论 设计利用辐射加热来产生缓变的均匀等离子体状态的铁三明治型样品靶．需要用数 值模拟研究几个因素(样品厚度、cH膜厚度和辐射源)的影响，回答下面几个问题： 上 1． 多厚的铁样品才能被x光进行体加热成均匀等离子体? k 2． 多厚的低z介质可以有效地抑制铁样品膨胀，它对产生的等离子体状态有无影 响? 3． 对辐射源的要求，即产生所需的等离子体状态需要多大的辐射源 数值计算中，辐射源采用高斯型脉冲．从左侧加热铁三明治型样品靶。 1．体加热 辐射加热铁三明治型样品靶生成等离子体，当辐射源停止作用后，样品等离子体内 通过热传导使温度、密度梯度逐渐减小．样品等离子体在某段时间内时是否达到均匀，取 决于在某段时间内传热的距离是多少。对于要探测的均匀等离子体状态￡、P，在}时间 厍了 内的传热的距离可I；卫由三≈．f二生估出，其中k。为Spitzer经典热传导率．c。为电子定容 。 Vc，P 比热。当等离子体的尺度与此传热距离相近时，。用厚的CH膜控制y