石英玻璃基TiO-%2c2-膜的XPS的研究.pdfVIP

第46卷化学专刊 武汉大学学报(自然科学版) Issue(11 Special 2000年3月 wuhan J un扣．(Nat Sci．Ed．) Mar．2。oo，L 28～【30 文章编号：0253—9888(2000)S1—0128—03 石英玻璃基TiO：膜的XPS研究 赵青南+，余家国，赵修建 (武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室，武汉430070) 一————————————————————————————————————————————————————————————————————————————～—————一 摘要：用x射线光电子能谱(xPs)研究了不同热处理工艺条件下用溶胶凝胶法制备的石英玻璃基TiC,：膜 的表面组成根据XPS数据和S．Tanuma．提出的方法研究了膜厚的尺寸变化．结果表明：随着热处理温度的提高 或者热处理时间的延长，TiO z膜厚尺寸逐渐降低，膜表面的si元紊浓度逐渐增加．XPS可以有效地表征出T[O。膜 厚尺寸在10 nm范围内的变化． 关键词：XPS；TiO。膜}睡厚；表面组成 中国分类号：0婚 ． ————————————————。—————、————————』。．．。．—————————二．。———————。——————、—————．、——————————————————————————．——————、—————．———一——一—— TiO。膜广泛地用于传感、太阳能电池等材料 衰1热处理工艺条悼 领域，越来越受到人们的重视口一]．目前被广泛采用 的制备TiO。膜的方法之一是溶胶凝胶法．但是，溶 试拌编号 1 2 3 4 5 胶凝胶膜经热处理后会与基体发生扩散、烧结，使膜 热处理温度／℃ 520520520700900 的组成和膜的厚度发生变化，从而对膜的性能产生 热处理时间／h 2 5 10 2 2 影响．XPS是研究材料表面组成与膜厚尺寸在】0 rim范围内变化的强有力工具，已在自氧化膜01及 1．2 XPS测试 粉末包裹层[‘3等方面得到了广泛的应用．可是，用 MKII 用英国V．G．ESCALAB X射线光电子 XPS获取数据研究TiO。膜的表面组成及膜厚随热 能谱仪取谱．分析室真空度优于1．0×10一Pa，x 处理工艺条件不同而变化的文献还不多．本文用 253．60 XPS研究了用溶胶凝胶法在石英玻璃上制备的 射线源为MgK。线(1 eV)．高分辨谱扫描通 TiO。膜的表面组成及厚度与热处理条件的关系．在 能为20．0eV，数据采集步长：0．05eV；全谱扫描通 研究膜厚时，没有为了计算上的方便而忽略XPS油 能为50．0eV，数据采集