Mo／B4C多层膜界面结构研究.pdfVIP

第七届全国x射线衍射学术会议论文集 1998年11月武汉 Mo／B4C多层膜的界面结构研究 于文学李吉学王晓明龙北红 吉林大学 材料科学研究所 f长春130023) 在过去，电磁波曙中1．30mn波段(称为软X射线波段)一直未得到开发应用。长期以来， 全反射的掠入射反射镜被认为是该波段唯一应用的光学元件．但这类反射镜存在相差难以消除、体 积庞大等问题”。随着纳米镀技术的发展，软x射线多层膜逐渐解决了这一难题。利用膜系多界面 反射干涉的软X射线多层膜具有高反射率、波长选择特性等，而广泛的被应用来制作软x射线成 像元件。因而软x射线多层膜在天文、生物、材料科学等领域得到了广泛应用。 由于软x射线的波长远大于玻尔半径，其传播仍可用波动光学，即Maxwell方程组描述。利 用x射线的全反射技术测定膜的层结构和膜表面。”，我们利用磁控溅射的方法制备了一系列 Mo／B。C多层膜，着重对其微结构进tfT分析。以0表示样品的表面和界面均方根粗糙度。对样品 进行了膜厚误苇计算．并分析了样品时效退火处理后的结构和性能变化以及界面的扩散问题 一、实验工作 样品是在F]P一600型磁控与离子束溅射复合镀膜设备上镀制的。样品与靶问距lOca。真空系 统由机械泵和涡轮分子泵组成：最大本底真空度可达1×10～Pa：气体流量由质量流量计控制，保 证了工作气压的稳定和镀膜质量。膜厚控制由控制单位时间被溅射粒子束流量大小的时间控制法。 样品的基片是硅单晶(001)．0O．5nⅢ。首先用乙醇和丙酮1：1清洗液对基片清洗．然后用超声 波清洗．甩干后将其放入真空室，真空度达到6-8×101Pa时．通入工作气体Ar并调节气体流量， 以维持工作气压在02Pa左右。在稳定的工作参数下，先对材料进行预溅射处理。根据材料的溅射 速率和多层膜周期厚度，把控制参数输入计算机，然后由计算机控钮镀膜。样品的具体设计参数见 表l。 二、实验结果及讨论： 薄膜在应用时会随着时间的推移结构发生变化而产生时效效应。我们将’3。样品作了间隔为800 小时的时效处理．并进行T4,角X射线分析。由于中间情况变化不大，所以选择初始和4000小时 时效处理的两种情况．如图l和2。比较两曲线可以发现，二者的衍射峰级次和衍射强度都无明显 变化．说明制各的Mo／B4c多层膜样品经时效处理后，界面结构没有发生明显改变，这表明其有很 好的常温稳定性。多层膜基底的质量好坏直接影响到膜的质量，如图3、4。由计算表明4。样品的 周期实际厚度8．0811m而轳样品的为817ttal，两样品实际设计的膜周期厚度为8．04nm，而54样品的 基片粗糙度为0．8I_|Ⅲ，妒为04am，可见矛样品的基片比44样品的对多层膜的界面影响大，界面粗 糙度越大，导致衍射强度降低，衍射级数减小。从中可见，粗糙度随膜层被复制，从而导致非镜面 散射效应变大。我们还对样品进行了退火处理，其结果见图5、6、7．可以看到X射线小角衍射峰 的级次随退火温度的增高而逐渐减小，且强度也呈逐渐下降趋势．表明多层膜退火后界面发生了较 大的变化．界面粗糙度不断增加，从而导致了峰强和衍射级次的相对减小。 参考文献： [13E etal．．Opt Spller Eng．30(1991)1109 [2]P Croce．J．Opt．。14(1983)1 aJld [3】SK．Sinha．．E．B．Sirota．S．GaroffH．B．Stanley，Phys．Rev．，B38(1988)1045 [4]A Bruson．，C．Dufouz·eta1．，Solidstat奄Colnmun，7l(1989)1045 15jD．E 69(1991)1411 Savage．，R．Kariotiel：a1．．J．Appl．，Phys 16Jj．B P}1vs．70(1991)3620 Korcrght．】．Appl 【7 eia1．RevSci．Ins仃lJ『fL．63(1992)1478 J0