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采用PZT薄膜的射频滤波器研究
刘燕翔任天令刘理天
(清华人学微电子研究所,北京,10084)
摘要:微机械加JJ技术是提高射频通信前端器件性能、缩小其体积的有效方法。文中
介绍了应用MEMS(微电子机械系统)技术的体声波射频滤波器的原理、结构,分析了
PzT的材料特性,优化了硅基薄膜的制备、退火、刻蚀等集成工艺,并在此基础上设计了
以该材料为核心的射频滤波器,模拟了该器件的性能。
关键词:射频滤波器;谐振器;徽电子机械系统;锆钛酸铅
1引言
当前,随着卫星、蜂窝电话等无线通信技术的迅速发展,以往的主流通信频段日益拥
挤,人们越来越关注更高频率的通信应用。射频(800MHz~4GHz)通信相对较低频段通
信有着带宽更大、数据传输更快的优势。在GHz通信系统中,前置滤波器是系统提高信噪
比、减少功耗的关键环节。最近美国麻省理工学院微系统实验室研制了以A1N压电薄膜实
现电、卢耦合的体声波(SAW)滤波器…,其插损低、带宽大、面积小的优良性能代表了未
来射频滤波器的发展趋势。
PZT材料有着优良的压电、铁电特性,具备突出的力、电耦台能力。近年来,随着
PZT薄膜制备技术的发展,A.1『f
J越来越意识到新型功能材料是对目前以硅系统材料为基础
的微电子器件的有力支持和补充。PZT薄膜在厚度方向具有高机电耦合能力(PZT的
Kt50%,而目前t流的压电薄膜材料AIN的K。电5%),这一优越的材料特性赋予r它在
MEMS等微电子器件领域中巨人的潜力。
2体声波滤波器的原理及结构
体声波谐振器的结构如图1所示。它采川了电极.压电薄膜.电极的夹心结构。输入电信
号由压电薄膜的逆压电效应转化为卢信号:当声波在上F两个界面内谐振时,阻抗表现为
最大(并联谐振)或最小值(串联谐振):最后由薄膜的压电效应将声信号转化为电信号
输出。如果将多个谐振器进行合适的互联,就可以得到多种形式的滤波器。采用MEMS微
加工上艺,我们可咀进行衬底腐蚀,使卢波在空气间反射,从而减少声能在衬底中的损
耗,提高谐振器的品质。
衬
图I体声波谐振器结构示意图
本论文受国家973和清。芦大学985课题资助
众所周知,要提高体声波滤波器的性能,就必须提高压电薄膜的机电耦合效率,减小
机械损耗及漏电。与此对应,压电薄膜有两个参数是研究中关注的焦点,即机电耦台系数
K。和品质因数Q。其中K.反映了机电转换的效率.并决定了滤波器的带宽:O值越夫表示
压电薄膜损耗越小,同时也表明滤波器有较快的带外衰减。
另外.压电薄膜在GHz频率下的动态电容也值得关注,C。过太(即£过大)将难以保
证阻带的隔离度。
3 PZT的材料特征及制备、加工技术
加物不同以及制备【.艺不同都会影响它的压电、介电性能。室温。r,zr/Ti配比为53/47
左右,晶体处于准同型相界.此时机电耦合系数、介电常数表现为最大值(K750%,
值有所上升。
薄膜形态的PZT与块状陶瓷有较_人不同,其特性参数与薄膜的择优取向有很大关系。
低£值吼
底结构。其中Pt为电极.它还能阻挡高温F
Si与PZT的层间扩散(Pb易丁二与Si发生反
应,严重损害压电薄膜的品质)。Ti作为粘附层增加Pt与Si02/Si衬底的附着力。PbTiO,
在Pt上生眭有很好的(001)取向,能与PZT晶格相匹配,通常被用作PzT晶化的种子
层。
在硅基上形成PZT薄膜,简单易行的方法是Sol-Gel法,它具有成本低、能精确控制
组分、均匀性好、易掺杂等特点。此外还可采用射频磁控溅射、MOCVD、激光沉积、分
子束外延等。不论哪种方法,操作时都会在原料中加入过量的Pb。这是因为PbO的熔点
低,饱和蒸汽压高,对PZT进行热处理时容易产生铅挥发,加入过量的Pb能够补偿Pb
损,保持理想的组分配比。
退火工艺往往对PZT薄膜的制各有着重要影响。工艺研究证明快速退火(RTA)【”更适
用于面向MEMS的PzT薄膜制备。它较常规退火(CFA)有如下特点:(a)晶化温度
低: (b)退火时间短;(c)Pb挥发少;(d)减少了薄膜与村底的反应{(e)抑制晶粒
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