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21世纪材料高速分析第三届全国高速分析学术交流会论文集
综论碳和硫的红外光谱法测定
田英炎1。张兴宝2
(1.西安理工大学,西安7100483 2.无锡英之诚仪器有限公司,无锡214151)
红外光谱法测定碳和硫的量,是国内外公认的又好又快的分析方法。根据燃烧系统的不同,有高频和红
外光谱法;管式炉红外光谱法;还有我国特有的电弧炉红外光谱法。其中以电弧炉红外光谱法燃烧速度最
快;高频红外光谱法应用最广泛;而管式炉红外光谱法生成CO的量最少。为了提高分析的精度与准确度,
工作实践中发现影响因素较多,有仪器硬件问题,也有分析方法问题。
本法综合了分析中的10个问题,提示如下。
l仪器分析性能的检验
1.1冷热态基线试验
采用仪器分析条件,不加坩埚和样品进行一次分析,即冷态基线试验。同样采取上述的分析条件进行一
次样品分析,分析结束后不移走坩埚,立即再执行一次不加样品和添加剂的分析,即热态基线试验。此两次
试验结果都应趋近于零(一o)即仪器分析条件下空白为零,说明仪器设置分析条件合理。
1.2仪器分辨率(灵敏度)
分辨率:碳和硫为l×10-5%。
分析精度:测定低含量(×10_4%级)样品进行分析,碳、硫的分析精度在士2×10-4%。
1.3标样增减量试验
为了考虑减去空白后分析结果的线性,在仪器上分析几个试样,特别是低含量试样,其结果表明,碳和硫
的分析结果都随试样的增减而比例的增减,说明仪器分析线性良好。
l-4仪器扩展性能
测定高碳和高硫,如90%的碳量,90%的硫量,是靠少称样,利用仪器扩展性能来完成。根据高碳池和
硫池的容量,选定碳量10~15mg、硫量1~3mg,否则会带来测量池的溢出。但也要关注称量误差和扩展
误差。称量可用十万分之一的天平或用固体稀释技术(用万分之一的天平)。减少扩展误差,添加剂需定量
加入并合理扣除空白。用同种等量标准试样分析数次,计算符合线性,数据又接近,说明扩展性好。
1.5方法的精密度试验
按试验方法和仪器操作说明,用同种样品连续测定11次,所得数值越接近,说明精密度越好。
2坩埚的处理
000~1
普通坩埚碳空白值在0.005%以上,因此使用前必须在1 200℃的马弗炉内灼烧4h以上,这样
h,
处理,对常量碳和半微量碳的测定精度不受影响。若用于超低碳分析,还得在1300℃通氧气灼烧1~2
取出即用,这样空白可能更小。也可以用“打底坩埚”即在坩埚中加人0.5g纯铁、钨粒1.5g,在高频炉中,
通氧燃烧,冷后即用。此法处理,坩埚空白值最小,用来分析超低碳硫,效果最好。也是降低坩埚碳空白非常
有效的简便方法。
3添加剂空白
钨系列助熔剂。如纯钨粒、钨+锡、钨+纯铁、钨+锡+纯铁等是高频常用的添加剂。
添加剂作为化学制品,有规格要求。常量碳和硫测定,要用分析纯,低含量测定,有时用光谱法纯或电子
纯试剂,要求杂质要少,碳和硫含量要低。另外对添加剂的几何形状、粒度、空隙度等物理性能也应注意。如
·8‘
田英炎等:综论碳和硫的红外光谱法测定
钨系列助熔剂,粒径在0.84,-,一0.42mE,孔隙度15%左右,这样透气性好,反应快,有利于氧化燃烧。要求添
加剂的空白值要小,一般应小于被测元素碳和硫含量的10%,此项要求对于高含量碳和硫的测定,不会引起
很大的麻烦,而对于低含量碳和硫的测定,就是很大的问题。如碳和硫量均为5×10_4%的试样测定,要求
钨添加剂中碳和硫含量均小于5×10-5%,若每次分析加入1.5g钨粒助熔其含碳量应小于8×10-5%。而
优良的国产钨添加剂空白值在3×10.4%以上,难以用于超低碳分析。经过研讨,国产的钨粒几何形态与进
口的钨粒有差异,前者表面粗而不光,后者表面细而光滑,前者吸收环境中的C02较多,后者吸收环境中的
C02较少。表面吸附引入空白。经过对国产钨助熔剂进行表面处理(44学抛光或洗涤),空白下降至5×
10-5左右,而且较稳定。达到并超过美国LEDO助熔剂的指标。可用于超低碳分析。另外选用太原纯铁助
熔剂(C型),其空白值在3×10-4%,而且较稳定。选用经升华
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