可用于正性化学增幅型光刻胶苄叉烷烃酮类双光子敏化剂.pdfVIP

46 中国感光学会2011 非银盐先进影像材料与前沿技术学术论坛论文集 可用于正性化学增幅型光刻胶的苄叉烷烃酮 类双光子敏化剂 袁浩，赵榆霞,吴飞鹏*1 （中国科学院理化技术研究所，北京100190） 摘 要：本工作合成了以三苯胺为电子给体的苄叉烷烃酮类双光子染料，并将染料和光生酸剂组成双光子 敏化产酸体系，系统的研究了染料的光化学和光物理性质。利用优选出的敏化产酸体系制备了化学增幅型 正性光刻胶，用衰减全反射红外谱研究了光刻胶膜中经双光子吸收敏化产酸的催化降解过程。将光刻胶应 用于飞秒激光双光子微加工，评估了其加工性能。 关键词：双光子吸收，苄叉烷烃酮染料，敏化，化学增幅型正性光刻胶 1 前言 与普通单光子光刻加工相比，利用近红外飞秒激光进行的双光子加工具有在深部加工能 1 力和空间选择性方面的优势 。而相对于基于聚合机理的负性光刻胶，化学增幅型正性光刻 胶避免了聚合过程的体积收缩问题，有利于实现更高的加工精度。因此，将双光子加工技术 应用于化学增幅型正性光刻胶的光刻加工，将是大幅提高光刻加工精度的可行手段。为了达 到这个目的，就需要一种能够在近红外飞秒激光激发下高效可靠生酸的光生酸体系。 由于常见于大多数双光子染料中的含氮电子给体均是碱性基团，这就限制了它们在基于 酸催化机理的化学增幅正性光刻胶中的应用。而三苯胺基团作为一个有效的电子给体，其共 + 2 轭酸恰是一个强酸（Ph N H, pKa = –5）。因此，以三苯胺为给电子基团的双光子吸收染料， 3 最有可能应用于敏化光生酸剂制备化学增幅型正性光刻胶。基于以上的考虑，本工作设计合 成了以三苯胺为给电子基团的具有大的双光子吸收截面的化合物BDPO 和BDPA （见图1）， 并 和 常见的商用非离子光生酸剂 N- 羟基 萘二甲 酰胺三氟甲磺酸酯 （N-trifluoromethylsulfonyloxy-1,8-naphthalimide，NIT）组成双光子染料敏化产酸体 系。 O O N N N N 1 BDPO 2 BDPA 图1 化合物的结构 2 实验结果与讨论 2.1 BDPO 和BDPA 的光物理性质 *通信联系人。E-mail: fpwu@mail.ipc.ac.cn 中国感光学会2011 非银盐先进影像材料与前沿技术学术论坛论文集 47 1.0 BDPO BDPA . u. u. a 0.8 UV FL a. /