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用XPS和XAES分析电化学沉积的DLC膜.pdf
维普资讯
第 6期 无 机 化 学 学 报 Vo1.19.No.6
CHINESE JOURNALOFINORGANIC CHEMISTRY Jun.,2003
2003年 6月
用 XPS和 XAES分析电化学沉积的DLC膜
阎兴斌 徐 洮 王 博 杨生荣
(中科院兰州化学物理研究所 固体润滑 国家重点实验室,兰州 730000)
采用 电化学沉积方法,以甲醇溶剂作碳源,直流 电压作用下在单 晶硅表面沉积得到碳薄膜 。通过研究石墨、金刚石和样品
薄膜 的XPS和 XAES谱 图特征,证 明了此方法沉积得到的是 DLC薄膜;利用 曲线拟合技术在 C,电子能谱图中拟合 出 sp 峰与
z峰,并计算 出样 品薄膜中 sp,碳 的相对含量为 55%;研究石墨、金刚石和样 品薄膜 的一阶微分 XAES谱 图,用线性插入法估
算 出样 品薄膜 中 sp碳 的相对含量为 60% 。
关键词 类金刚石碳膜 电化学沉积 XPS XAES
分类号 0612.4
O 引 言 分析时,电子辐射经常会损坏样品表面 n】。相反,x
射线光 电子能谱 (XPS)对样 品没有损坏,可 以同时
类金刚石碳 (diamond.1ikecarbon,DLC)膜具有
给 出光 电子 能谱 和俄歇 电子 能谱 (X.rayexcited
化学、电子 、光学和力学等方面的优异性能,如极高
Augerelectronspectra,XAES)的信息,CKLLXAES
的硬度 、极好 的化学惰性 、较低 的摩擦系数 、较高的
光谱非常适合用于鉴别不同种类的碳 的同素异形
阻抗 、良好 的热传导性和优 良的光学透过性等,因此
体 。
可 以广泛用于机械刀具 、生物材料 、磁记忆器件 、半
本文选择 甲醇有机溶剂为碳源,单 晶硅片作基
导体激光器 、热敏电阻、x光探测窗 口等领域。
底,采用直流电压,电化学沉积 DLC薄膜;用电子能
目前制备类金刚石碳膜一般用化学气相沉积法
谱 (XPS和 XAES)分析样品薄膜 的结构特征并估算
和物理气相沉积法,如微波等离子体辅助沉积 、磁控
碳和 碳 的比值。金刚石粉 (100% sp)和高纯
溅射沉积和脉冲激光沉积等。虽然这些方法都可 以
石墨 (100% sp)在 XPS和XAES中分别作为参 比样
得到高质量 的DLC膜,但气相合成实验装置的复杂
品进行分析 。
性和基底 的高温又导致 了这些方法具有一定的局 限
性 。Nambat1、汪浩等心 1用不 同的有机溶剂作碳源 1 实验部分
在液相 中沉积得到 了DLC膜 ,为从事 DLC薄膜制备
在本试验 中,碳源物质为色谱纯 的甲醇有机溶
研究的科研人员提供 了一条崭新的道路 。与传统方
剂,阳极为石墨 电极,阴极上装有 电阻率为 4—7n ·
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