基于纳米压印技术分布反馈激光器阵列的ONU光源研究.pdfVIP

第 34卷 第 11期 光 学 学 报 Vo1．34，No．11 2014年 11月 ACTA OPTICA SINICA November，2014 基于纳米压印技术分布反馈激光器阵列的 ONU光源研究 陈 鑫 赵建宜 周 宁 曹明德。黄晓东 刘 文 。 ／ 华 中科技大学光学与 电子信息学院武汉光 电国家实验室，湖北 武汉 430074 、 ＼光迅科技股份有限公司，湖北 武汉 430074；。中国科学技术大学先进技术研究院，安徽 合肥 230026／ 摘要 利用纳米压 印工艺及对接生长工艺制作 了基于分布反馈 (DFB)激光器阵列的适用于波分复用光无源 网络 (WDM—PON)光网络单元 (0Nu)的低成本光源芯片。器件使用单片集成多模干涉器进行合波输 出。测试结果显 示 ，器件平均阈值小于 10mA，边模抑制 比大于 40dB，波长调谐范围大于 10am，出光功率大于0．2mW。 关键词 光学制造 ；纳米压 印；半导体激光器 ；单片光子集成 中图分类号 TN248 文献标识码 A doi：10．3788／A0S2O1434．1113001 Research ofDistributedFeedback LaserArrayUsingas ONU LightSourcesBasedonNanoimprintLith0graphy ChenXin ZhaoJianyi· ZhouNing CaoMingde HuangXiaodong LiuWen’。 WuhanNationalLaboratoryforOptoelectronics，SchoolofOpticalandElectronicInformation， HuazhongUniversityofScienceandTechnology，Wuhan，Hubei430074，China AccelinkTechnologiesCo．，Ltd．，Wuhan ，Hubei430074，China 。InstituteofAdvancedTechnology，Universityof ScienceandTechnologyof China，Hefei，Anhui230026，China Abstract Low costopticalnetwork unit(0NU)lightsourcesbasedontunabledistributedfeedback (DFB) laser arrayusingforwavelengthdivisionmultiplexing-passiveopticalnetwork (WDM—P0N)arefabricatedbynanoimprint lithography(NIL)andbutt-jointregrowth (BJR)．Themulti·modeinterferencecoupler(MMI)isusedasoutput devicefor the monolithicintegrated device． The tested results indicate that．the thresholdcurrentiS lessthan 10mA．sidemodesuppressionratio (SMSR) ishigherthan40dB，tunablerangeiswiderthan 10nm andoutput powerislargerthan0．2mW ． Keywords opticalfabrication；nanoimprint；semiconductor1asers；monolithicphotonicintegration OCIScodes 13O．3120；l3O．5990；050．