有机缓蚀剂分子在金属表面化学吸附过程分析.pdfVIP

3d 第十一届全国缓蚀剂学术讨论会论文集 有机缓蚀剂分子在金属表商化学吸附过程分析 高延教“陈家坚‘橱怀玉‘ 斟殿珍‘ 昊堆皇‘ 。托盘籍溷翼一； (a中国科学院金属腐蚀与防护研究所 带。 ～——：_=‘一 中国科学院瘴劂与匿鲎国家重点室沈阳11001S) (b抚顺石油学院石化系挠顺113001) ．≯r。。 摘要本文从配位化学的瑰点，擐讨了有柳缓蚀荆分子在奎属表面和氧化 物被膜配位模型，并用此模型解释了，墟蚀荆协同椿用度环境中其它离子对麓蚀荆 与金属离子或原予对配住的影响。并根据此模型进一^步探讨了鬟蚀搠的分子翟计． 关键词表面络合糟高温缓蚀荆配位 随着缓蚀剂技术的发展，缓蚀技术实践要求：能够根据实际介质从理论上，判明选择合 适的缓蚀荆和影响缓蚀率的因素，从而减少工作量和挺高经蚀；l畦的防护性能．对于鬟蚀荆来 说，若将所要求的功能，物性和合成组成三位一体，将会促进缓蚀赉l技术的发展，这种积撮的 称谓分子设计。分子设计包括与所要求的功髂相对应的畦质，推断能体现这一性质的结构， 根据结构推出合成路线。缓蚀剂结构是一个根有用的概：怠：，它包括如下信息；在囊蚀捌分子 中，存在特殊的功能基，配位原子在分子的位置和相互关系，缓蚀剩分子的电子结构和赞理 性质，缓蚀搠分子遮盖面积。换言之，分子设计包括物性科合成两十方面，它们应从琦麓设 计，结构设计，反应设计的观点来考虑。就现在的学术体系幕说，只能将合成和功能分别进行 研究．很明显功能研究是合成研究的基础．在设计其有特定功能的缓蚀剂时。为了撵明虚考 虑的因素范围，需要从缓蚀剂的分子结构和金属界面之问柏互作用及腐蚀介厦r兰个方面来 进行讨论．固体上表面的原子、离子、分子处于化学力不均衡状态．褒面上亿学力不均囊状 ．：。o§镬q一■：。，。．一，∞．，：，。嚣i；、．j。 态，可以理解为金属表面原子，离子配位不饱和。容易想象：这种不饱和健对化学暇附和表面 反应都具重要的意义。根据金属表面的状态可将缓蚀剂的配位过程分为两种情况进行分折． 1缓蚀剂在清洁的金属表面配位分析 在酸性溶洌中，金属表面是裸露的。裸露的金属表面与腐蚀介质直接接越，盒曩愿子戚 金属离子可以和缀蚀剂直接配位，根据配位化学的观点，我们率拟一4匾=具有试探性的和推理 性的，缓蚀剂在金属表面配位示意图见艇1。 由图可以看l【b：缓蚀剂在清洁的金属表面配位过程是缓蚀jflf直接连接在金属表面上，或 者通过优先吸附柱金属表面的特性阴离子的静电引力同接连崔金属上． 2缓蚀剂在有覆盖膜的表面配位分析 在中性溶液或其他腐蚀介质中(硫化氧、=氧化碳的水溶渡口．当发生腐蚀后，可形成难 有机缓蚀剂分子在金属表面化学吸甜过程分析 35 三寻。 三量l 蚕千一毒t j2马 螫=一h(．)虽。≮ 图1缓蚀剂配位在金属表面上配位现象 RL表示缓蚀剂配体，R为烃基，L为含有孤对配位功能基，Lt表示特性 吸附酲离子(I一、CI一、SCN一、HS一)。 a)单齿配位的表面络合物。b)缓蚀剂通过特性吸附阴离子的静电引 力连接在金属表面。c)形成表面螯和物，四圆环或五圆环螫和物较稳定， 缓蚀率也较高。d)形成多核配位表面络舍物，它可制成耐高温缓蚀剂。e) 鹱蚀剂通过溶液中的金属离子和表面特性阴离子间接地接在金属表面 上，它的稳定性可以从晶体场理论得到解释。 溶产物，