沉积在液体衬底上连续铝薄膜的微观结构3.pdfVIP

第 49 卷 第 11 期 2000 年 11 月 物 　理 　学 　报 Vol. 49 ,No. 11 ,November ,2000 ( ) 2000/ 49 11 / 223505 ACTA PHYSICA SIN ICA 2000 Chin. Phys. Soc. 沉积在液体衬底上连续铝薄膜的微观结构 陶向明 　曾耀武 　冯春木 　焦正宽 　叶高翔 (浙江大学物理系 ,杭州　310028) ( ) 2000 年 3 月 23 日收到 　　研究了沉积在硅油衬底表面的连续铝薄膜的微结构及其表面形貌. 与沉积在单晶硅表面的铝薄膜相比 ,两种 铝薄膜均属颗粒结构 ,但硅油表面的铝薄膜具有颗粒尺寸较小、大小不均匀 ,表面起伏较大等特点 ,而且在该铝薄 膜边缘的下表面 ,有一明显的波纹状楔型结构 ,其斜率仅为 10 - 4 —10 - 5 . 实验结果表明 :这一现象是由于液体衬底 的热膨胀行为引起的. 此外对样品的晶态也进行了研究. 关键词 : 铝薄膜 , 液体衬底 , 微观结构 PACC : 6855 , 6116D 的成膜机理. 1 　引 言 2 　实验方法 薄膜衬底特性对薄膜微观结构和生长机理起着 很重要的作用[1 —3 ] . 例如 ,在一定条件下 ,沉积在固 样品用真空蒸发方法在室温下制备而成. 先将 ( 体衬底上的金属薄膜呈粗糙表面结构 ,且具有无规 一小滴纯净的扩散泵硅油 DOW CORN IN G 705 ,室 [4 ] - 8 ) 自相像特征 . 对于较厚的薄膜 , 薄膜表面的粗糙 温下其蒸气压小于 10 Pa 置于抛光硅晶体 [ Si 结构可以忽略不计 , 因为它不会明显影响薄膜的整 ( 111) ] 的表面 ,作为样品的液体衬底. 再将液体衬底 体物理特征. 然而对于非常薄的薄膜 ,薄膜表面的垂 放入真空室内 ,水平固定在蒸发源上方. 为了保证在 直涨落幅度可以和薄膜的厚度相比较 ,薄膜表面的 沉积过程中液体基底不会被蒸发源明显加热 ,衬底 非平整效应就会显得十分明显[5 ] . 和蒸发源之间应保持较大的距离. 本实验中此距离 迄今为止 ,人们对沉积在固体表面的薄膜的下 为 20 cm. 当真空室中气压降为 50 ×10 - 4 Pa 以下 表面形貌研究还很少见报道. 其主要原因有以下两 后 ,蒸发开始. 蒸发材料铝的纯度为 99 99 %. 薄膜 个方面 : ( 1) 由于薄膜的下表面和固体衬底结合得非 名义厚度及其沉积速率用石英晶振测厚仪控制. 样 常紧密 ,所以很难从固体表面把薄膜完整地脱离下 品制好后 ,将其从真空室中取出. 铝薄膜衬底的示意 ( )