自掩膜光刻工艺研究及在PSS产品中的应用.pdfVIP

Science Technology Vision 科技·探索·争鸣 科技视界 机械与电子 自掩膜光刻工艺研究及在PSS产品中的应用 袁根如 （中国上海201210） 【摘 要 本文研究 了采 用普通 的接 触 式光 刻机 来制 作 产 品 并且使 光 刻 出的 具 有 与 光 刻机 相同的 效 用 研究结果 表明 】 PSS ， PSS stepper ， ， 通过 开发 出的 自掩膜 光刻 工 艺技术可以制作 出与 stepper 光 刻机 相同规 格 的 PSS 产 品 ，并将 其 制 作 成 大功率 LED 器件 ，封 装后 在 100mA 电流 驱动 下率 出光 效率都 达到了 99lm/w 。 关键词 自掩膜 光刻 图形化 蓝 宝石衬底 发 光二极管 【 】 ； （PSS ） ； （LED ） 0 引言 基 外延片及芯片是半导体照明的核心 由于其节能 长 GaN LED ， 、 寿命 环保的特点 近年来日益成为各国积极发展的方向 在我 、 ， 。 LED 们的生活中已经无处不在 大到 年北京奥运会上的各种灯光和 ， 2008 显示效果 体育场馆和各式晚会上的超大显示屏 小到各种指示和特 、 ， 种照明以及包括手机等个人电子用品中的光源 基本上都是 的 ， LED 天下。 衬底是制造 外延片不可缺少的关键材料 由于缺乏合适的 ， LED 衬底 基 外延片一般都生长在异质衬底之上 其中蓝宝 ， ， GaN GaN LED 石衬底已经成为主流 异质外延的特性决定 生长在原子级平整的蓝 。 ， 宝石衬底之上的 基 外延结构中不可避免的存在大量缺陷 ， GaN LED 影响 内量子效率的提高 应用 技术 在蓝宝石衬底上形成微 LED 。 PSS ， 纳图形 结合 外延的侧向生长效应 可以减少外延结构中的缺陷 图 图形制作工艺