单晶硅炉用碳石墨材料的研制和应用.pdfVIP

-～}i TfL【2’j o．7 单晶鼢用碳石墨材料的硎与应用 郝 鹛 东新电碳股份有最公司) (西川自贡，643000， 摘‘要 晓法控制半导体苹晶硅，妒室中使用多种碳石墨材科。 车又倚要介绍单品 炉炉窒结构、工作骧理，重点阐述适用碳石墨材料的要求和研lj应用情况· 关键词 单晶硅妒 碳石墨材糟 研制与应用 一、单晶炉结构．工作原理 草矗妒大多用于控制半导体单晶硅。旺法单晶硅炉室结构如留一所示。炉室中央为石 英坩蜗，供盛装单矗硅愿料之用。石英坩蜗支禧在石墨托碗‘培埚)内·石墨托碗外为圆 笛形宅担式石墨加热器。炉塞外层为石墨保涩罩，上加石墨盏板，妒室最井屡加盒属套， 密封形成封匝式护室。 单矗硅是以高纯度硅检为寡科。在氢或董气筹保护性气氛条件下，经1400～1∞0℃篙 浸镕釜仔晶牵引品拄逐渐长大控制成型曲。拉恻过程串，石墨托碗连同石英蚶蜗通过炉室 赢都传动装置低速麓转，炉室中央上部安蓑有可上下移动并可蓑转(方向与坩蜗转向相反) 的仔矗参引轩．电脑控制工艺．拉制的单晶硅棒表面光亮井形妮羹形如实篙的热水瓶照· 2-‘，14”筹·我 单矗炉铵盛装暂料窖器直径划分炉型规格，引避单矗硅妒有嚣”，l∥，1 罾9睥莆多用p12”小型炉，近年1抽拶己用于生产，并逐步向大型妒发晨．97年崭江大学 巴研悄成功我国国产单矗妒。 拉爿单函毪工艺谠程是：盛装硅粉一一密封炉室一一抽真空—一通电升灌一通保护气 一一秀灌一一硅耪蝽融一一舒矗入液一一牵戳控制一一玲却出妒． =，单晶硅炉璇石墨材料特性 单矗炉妒室所用石墨托碗，加热墨，豫疆罩外形尺寸如表1所示。暑连用大中型碳石墨 毛坯加工． 石差托碗和石墨加热器是单品妒炉室曲关键组件和寻耗怦．为保证单品硅的高纯度要 求和生产过程的经济可蠢．对碳石墨材科具有较骞的要求． ·ll7· 表1革晶硅妒石墨件舰格 尊每t皿 炉型 i4” 12“ 10” 石墨件 石墨加热嚣 1446／f402x406 石墨托碗(上) ／382／／356×190，船lx120／297x120 (下) ，382／，356×107，331×s2．5，297×韶．5 石墨像港罩 Jr鸵4x伽 ’497／f485x蛾 石墨盖板 ，6lV，400×20 首先，石墨托碗和加热罄对质曲纯度要高。在1500℃左右高囊下不允许有影响单矗硅 地皮请杂质挥发选出。使用袁魄，采用雷产G3(灰静0．∞5％)高纯石墨剞作石墨托碗可基 本满足单晶硅纯度要求。其次，石墨托碗要求其材质导热率高，热膨胀系数小，抗氧亿性 抗热冲击性要好。使用单位每挺|!l一妒单磊硅，郝希望周期短成车伍，往咎呆取较快的升 疆和冷却速度，尤其要避免生产过程中石墨静碎裂一一报废昂贵的纯硅特科。但是瑗石墨 材料导热率菩毕竟军如盎置材料，受急垮悫热较易肆裂．除了适当操作控倒浸壹蓬皮外， 提高碳石墨材质曲密度强度石墨化程度，箕抗热冲击性和抗氧亿性以及使用寿命都丰}挺膏． 石墨托碗的作用是支霉高温下处予软化姨态的石英坩蜗．高港下，硅与石墨有较覆韵 反应性：故不能直接用石墨瓣蜗盛装硅，而1400℃巴接近石英的软化点，石英蜡蜗将弗最 载亿依附在石曩托碗上。石墨托碗要采用细颗粒结构材科，以便可加工威光滑的表茸， 罐子兢楼，反复靛凫。石墨托碗通常青i成如踞3上下薅段对接，并将其土半段剖残井口环． 利用碳莓量一定程度的弹性性能，适应高浸下体积膨胀率较莓薹大的石英蜡螭的辟胀，否 黑8石墨孛乇碗将被胀裂。 替上所连，单晶硅妒用石墨托碗盔选用品石墨化碳配