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光电工程
维普资讯
第 34卷第9期 光电工程 V_oI.34.No.9
2007年 9月 Opto—ElectronicEngineering Sep,2007
文章编号:1003—501X(2007)09—0025—05
大口径多孑L透镜离轴成像研究
高 仲 2,马君显2,周崇喜 ,罗先刚 ,杜春雷 ,王长涛
(1.中国科学院光电技术研究所 微细加工光学技术国家重点实验室,四川 成都 610209;
2.深圳大学 先进技术研究中心,广东 深圳 5l8060)
摘要:设计并采用微细加工技术制作 了直径 =50mm,特征尺寸为 10gm的大口径多孔透镜(photonsieve)。在一
定的视场下采用数值计算和实验方法分析 了其聚焦特性和 MTF曲线,为克服多孔透镜一级衍射效率较低 ,成像
质量受背景光干扰的影响,采用了同轴和离轴成像实验。实验结果与聚焦特性一致,两种实验方法得出的不同实
验结果表明:离轴成像系统效果克服 了同轴成像受0级背号光的影响,改善了像质 ,为很多一级衍射效率较低的
衍射透镜成像提供一种新的成像方式。
关键词:多孔透镜;大口径透镜;离轴成像;聚焦特性
中图分类号:TN256 文献标志码:A
Off-axisimagingofphotonsievewithlargeaperture
GAO Zhong~ ,M A Junxian2,ZHOU Chong-xi,
’
LUO Xiangang ,DU Chun-lei,W ANG Chang-tao
(1.StateKeyLaboratoryofOpticalTechnologiesforMicrofabrication,InstituteofOpticsandElectronics,
theChineseAcademyofSciences,Chengdu6l0209,China;
2.AdvancedTechnologiesResearchCenter,ShenzhenUniversity,Shenzhen5l8060,China)
Abstract:Aphotonsievewithp~ameterofdiameterD=-50mm minimum microholediameterof10um formedonalayer
ofmetalfilm supportedbyapieceofthinglass.wasdesignedandfabricatedbymeansofmicrofabricationtechnique.
BothfocusspotandMTFcurveswerepresentedandanalyzedincertainView ofField(VOF)insimulatedand
experimentalwaysto evaluate itsimaging characteristics.Off-axisimaging experimentswerecarriedoutusing the
elementtoimprovetheimagingquality,nadon—axisimagingexperimentisdoneforcompraison.Theresultsshow focus
spotwasinexcellenta~eementwithsimulatedvalueandoff-axisimagingarebetterthanthatofon。axisimagingby
gettingovertheblurryeffectcausedbythe0-orderdiffractivewaveonbackground,whichcouldofferan
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