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光电工程
第36卷第2期 光电工程 Vo1.36,No.2
2009年2月 Opto—ElectronicEngineering Feb,2009
文章编号:1003—501X(2009)02—0029—05
多层薄膜光学常数的椭偏法研究
徐均琪,冯小利
(西安工业大学 光电工程学院,西安 710032)
摘要:研究了椭偏测量中多层薄膜拟和模型建立的过程,并对一未知多层光学薄膜进行 了椭偏分析,建立了
substrate/film1/EMA/film2/srough的物理结构模型。采用椭偏法,在首先确定出基底光学常数的基础上,提出了从
单层、双层、三层逐次建模拟和的分析方法。研究结果表明:对于透明或弱吸收光学薄膜,采用柯西公式可以较
好表征材料的色散关系。椭偏分析最终得到的未知薄膜基本结构为 G(1.52)/2.0312(203.0nm)1.4636(170.1nm)
2.079lf170.4nm)/A,膜系设计及分光光度计测量的透射光谱证实了这一结果。对多层膜厚度和光学常数的分析
表明,椭偏法仍然是一种行之有效的薄膜光学常数测量方法。
关键词:薄膜;厚度;光学常数;椭偏测量
中图分类号:0484.5 文献标志码:A
OpticalConstantsofM ulti-layerThinFilmsInvestigated
bySpectroscopicEllipsometry
XUJun-qi,FENG Xiao-li
(SchoolofOpto-electronicEngineering,朋’anTechnologicalUniversity,Xi’an710032,China)
Abstract:Thefittingmodelofmulti—layerthinfilmsni ellipsometryanalysiswasestablished.Anunknownfilm was
investigatedandthephysicalstructuremodelofsubstrate/film 1/EMA/film2/sroughwasapplied.Basedonspectroscopic
ellipsometryafterdetermniinghteopticalconstantofthesubstrate,themodelingmethodofnicreasedlayersfrom snigle
to3-layerwasprovided.TheresultsindicatehtathteCauchy dispersionmodelisavailableforopticalrtansparentor
weak—absorptionthinfimls.ThestructureoftheunknownfilmwasfittedwithamodelofG (1.52),2.o312(203.0rim)
1.4636(170.1nm)2.0791(170.4nm)/Abyellipsometryanalysismehtod,andhteresultwasconfimredbyhte
rtansmissionspectnmafrom aspectrophotometer.Thenaalysistoopticalconstantna dfilm thicknessalsoshow htathte
ellipsometryiseffectiveformulti—layerhtinfiml snaalysis.
Keywords:thinfilm;htickn ess;opticalconstant;specrtoscopicellipsometry
0 引 言
薄膜的厚度和光学常数是膜系设计、材料研究和薄膜制备中不可缺少的参数,椭圆偏振法是测量薄膜
厚度和光学常数的一
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