磁流变抛光驻留时间算法.pdfVIP

第36卷第 1期 光电工程 V_o1．36．No．1 2009年 1月 Opto—ElectronicEngineering Jan．2009 文章编号：1003～501X(2009)01—0114—06 磁 奎IL又抛光驻留时间算法 孙希威 ，韩 强2，5-~泳 ，刘 胜 (1．哈尔滨工程大学 自动化学院，哈尔滨 150001； 2．东莞出入境检验检疫局综合技术中心电器实验室，广东 东莞 523072) 摘要：针对磁流变抛光去除量与驻留时间呈线性关系特点，本文以Preston方程为依据，根据磁流变抛光专用机床 的运动形式，提 出了基于矩阵的磁流变抛光驻留时间算法，该算法通过调整各点驻留时间控制光学器件表面的去 除量，达到面形误差修正的目的，适用于非球面等可用通用光学方程表示的回转对称曲面。仿真实验结果表明， 采用该算法仿真加工可以使球形表面面形误差收敛至十几个纳米。通过对 K9光学玻璃球面进行的磁流变抛光实 验，获得了表面粗糙度Ra0．636nlYt的球形表面，面形精度P．V值 由抛光前的158．219nm减小到 52．14am，验证 了驻留时间算法的合理性。 关键词：驻留时间；磁流变抛光；面形误差；矩阵 中图分类号：TP273+．5 文献标志码：A M agnetorheologicalFinishingDwellTimeAlgorithm SUNXi．wei，HANQiang，YUDa．yong，LIUSheng (1．CollegeofAutomation，HarbinEngineeringUniversity，Harbin150001，China； 2．DongguanEntry—ExitInspectionandQuarantineBureau，Dongguan523072，GuangdongProvince，China) Abstract：MagnetorheologicalFinishing(MRF)wasanadvancedopticalmachiningmethod，Theremovalmaterialwas relatedwith thedwelltimewhen thework—piecewasmachinedwithMRF．Onthebaseofanalyzingthe effectof machiningparameterandtheprincipleofsurfacecontrol，theMRFdwelltimealgorithm basedonmatrixwaspresented accordingtoPrestonequation．Thesymmetryaxiscurvesurface，suchasasphericsurface，whichwasfitforopticsgeneral equation，wasmachinedwithMRFmachinebyusingthisinterpolatedalgorithm．Simulationexperimentresultsshow that thesphericalsurfaceerrorcanbeconstrictedlessthan20nm byusingthedwelltimealgorithm．Theplanarandspheric K9opticsglasswasmachinedwithMRFbyusingthedwelltimealgorithm，andthesphericalsurface，whoseRais0．636 nm andPV is52．14nm，isacquired． Keywords：dwelltime；magnetorheologicalfinishing；surfaceerror；matrix 0 引 言 磁流变抛光技术最核心技术之一是驻留时间算