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光电工程
维普资讯
第3l卷 第 lO期 光 电工程 Vo1．31，No．10
2004年 lO月 Opto—ElectronicEngineering Oct．2004
文章编号：1003—501X(2004)l0—0024—04
成像干涉光刻技术及其频域分析
刘 娟 2，冯伯儒 ，张 锦
(1．中国科学院光电技术研究所 微细加工光学技术国家重点实验室，四川 成都 610209；
2．中国科学院研究生院，北京 100039)
摘要：传统光学光刻技术 (OL)由于其固有的限制，虽然可对任意图形成像，但分辨力较低。无掩
模激光干涉光刻技术 (IL)的分辨力可达2／4，却局限于周期图形。成像干涉光刻技术 (IIL)结合了
二者的优点，用同一个系统分次传递物体不同的空间频率，能更有效地传递物体的信息，以高分
辨力对任意图形成像。初步模拟研究表明，在同样的曝光波长和数值孔径下，对同样特征尺寸的
掩模图形，IIL得到的结果好于OL。在 CD=150nm时，IIL相对于OL把分辨力提高了1．5倍多。
关键词：成像干涉光刻；空间频率；频域分析
中图分类号：TN305．7 文献标识码：A
IImmaaggiinnggiinntteerrrfeerroommeettrriicclliitthhooggrraapphhyyaanndd
itsspatialfrequencyanalysis
LIUJuan，FENGBo-ru，ZHANGJln
(1．StateKeyLaboratoryofOpticalTechnologiesfo，．Microfabrication，TheInstituteof
OpticsandElectronics，TheChineseAcademyofSciences，Chengdu610209，China；
2．GraduateSchooloftheChineseAcademyofSciences，Beijing100039，China)
Abstract：ConventionalOpticalLithography(OL)hasalowerresolutionbecauseofitsinherentlimits
htoughitcanimagearbirtarypatterns．nIterferometricLithography(IL)hasahighresolutionofA／4butis
restrictedtoperiodicstructure．ImagingnIterferometricLihtography(rm)integrateshtemeritsofOLnad
IL，nad rtansfersdifferentcomponentsofspatialfrequenciesatdifferenttime and passesstructure
informationmoreeffectivelyhtusimagingrabirtarypatternsathighresolution．Initialmodelingshowshtat
甩 Cna imagebeRerhtna OLforhtesamefeatureswiht sameexposure wavelenght andnumericalaperture
ofimaginglens．WhenCD is150nm．IlLimproveshteresolutionofrmorehtna 1．5timesoverOL．
Keywords：Imaginginterferometriclithography；Spatialfrequency；Frequencyanalysis
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