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第39卷第 10期 光电工程 V_01．39、NO．10 2012年 10月 Opto-ElectronicEngineering Oct．2012 文章编号：1003—501X(2012)10—0054—05 纯相位匹配滤波模式识别 在光刻对位系统中的应用 雷 亮，欧阳琴，施 颖 (广东工业大学 物理与光电工程学院，广州 510006) 摘要：针对光刻对准系统的微纳级对位精度，本文提出一种在图像相关识别的理论分析基础上，利用纯相位匹配 滤波算法以及它所特有的相干峰高度旋转敏感特性而进行投影式光刻对准的新型套刻技术。该技术可求得在套刻 过程中，掩模板和硅片基板对准标记的相对平移坐标与旋转坐标的量化驱动值，其对位精度与对位效率显著提高。 通过实验数据证明了该理论的实验可靠性与有效性。 关键词：光刻；套刻对位；模式识别；纯相位匹配滤波器 中图分类号：TN23；TN29 文献标志码 ：A doi：10．3969~．issn．1003·501X．2Ol2．10．009 TheAnalysisofPhase-onlyM atchedFilteringand ApplicationonProjectionLithography LEILiang，oUYANGQin，SHIYing (SchoolofPhysicsandOptoelectronicEngineering， GuangdongUniversityofTechnology，Guangzhou510006，China) Abstract：A pa~em recognitionnamedphase—onlymatchedfilteringispresentedtorealizehighprecisionalignmentin projectinglithography．Themethodachievesthealignmentwiththecharacteristicdirectionoftemplatesandsilicon subsgateusingthecoherentpeakrotatingsensitivefeatureinthefiltegmeanwhiletherelativetranslationdistanceof templatesandsiliconsubstrateisobtainedinrecognition algorithms．Such analignmentsystem isassembledin our matureprojectionlithorgaphymachine，nadwegottheexperimentaldatatoprovethehigheraccuracynadefficiency comparedwithconventionalalgorihtms． Keywords：lithography；alignmenttechnology；patternrecognition；phase—onlymatchedfiltering 0 引 言 研究满足高分辨特性的光刻系统是现今半导体工业的前沿课题 ，而掩模硅片对准系统是投影光刻机 的三大核心部件之一。由于高密度的印刷电路板布线或者集成电路芯片都需要多次将掩模板中的图形曝光 到 目标硅片基板上才z日,l-匕-,制作完成，即每一次曝光前都需要与前面已曝光的图形进行对准后才能曝光，以保 证每次曝光都有正确的相对位置(简称套刻)。如何提高套刻过程中掩模板与硅片基板的对准精度，成为光 刻领域中的又一个研究热点 4j。 掩模硅片对准系统按探测器的类型可分为衍射光栅位相型与光度型两种。前者是通过相位变化来测 量，目前的高精度投影光刻