磁流变抛光光学曲面的两级插补算法.pdfVIP

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光电工程

维普资讯 第33卷第2期 光电工程 Vo1.33,No.2 2006年2月 Opto-ElectronicEngineering Feb,2006 文章编号:1003—501X(2006)02—006卜04 磁自兹流流变抛光光学曲面的两级插补算法 孙希威,张飞虎,董 申,栾殿荣 (哈尔滨工业大学 机电工程学院,黑龙江 哈尔滨 l50001) 摘要:根据磁流变抛光的加工特点,本文提出一种加工光学曲面的粗、精两级插补算法。粗插补 算法控制工件的面形,精插补算法采用PVT模式,可实现对磁流变抛光光学曲面复杂过程的控制。 仿真结果表明,采用该插补算法加工R41.3mm、口径20mm的球面工件,插补误差小于0.45nm, 磁流变抛光该尺寸的K9光学玻璃,获得PV57.9l1nm的面形精度。 关键词:磁流变抛光;光学曲面;插补算法 中图分类号:TQ171.6 文献标识码:A Two-stageinterpolatedalgorithm formagnetOrheOl0gical finishingopticalcurvedface SUNXi-wei,ZHANGFei。hu,DONG Shen,LUAN Dian-rong (SchoolofMechatronicsEngineering,HarbinInstituteofTechnology,Harbin150001,China) Abstract:Basedon locuscontroltechniqueaboutmagnetorheologicalfinishingopticalcurvedface, two-stageinterpolatedalgorithm ispresentedaccordingtothecharacteristicsthatthenormallineof opticalpartisverticalwiththatofmagnetorheologicalfinishingpan.Theprimary inteprolationwith PVT(Position,Velocity,Time)modelwouldbeusedtocon~olthetraceofthetable,andthesecondary interpolationcouldbeappliedtocontrolthecomplexprocessofmagnetorheologicalfinishingoptical curvedface.Emulationresultindicatesthattheinterpolatederrorislessthan0.45nm whenmachininga sphericfacewhoseRandwidthis41.3mm,20mm respectively.ThePV(Peak·to-Valley)ofsurface accuracyis57.911nmafterK9opticalglasswiththesamesize(R=41.3mm,widthis20mm)ispolished. Keywords:Magnetorheologicalfinishing;Opticalcurvedface;Interpolatedalgorithm 引 言 磁流变抛光是一种先进的光学加工技术,是获得超精密、光学表面的理想工艺。光学曲面的插补运算 是超精密数控技术的核心技术之一。本文对磁流变抛光加工光学曲面的插补算法进行了研究。 1 磁流变抛光机床及;~n-r特点 1.1磁流变抛光机床结构 哈尔滨工业大学研制的三轴联动数控磁流变抛光机床能对光学玻璃和光学晶体进行平面、球面和非球 面等型面的加工。两台伺服电机驱动十字工作台做水平和垂直方向运动,一台伺服电机控制

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