光学加工中抛光垫特征对工件面形的影响分析.pdfVIP

第37卷第7期 光 电工程 Vbl-37．No．7 2010年 7月 Opto—ElectronicEngineering July，2010 文章编号：1003—501x(2010)07—0064—06 光学加工中抛光垫特征对工件面形的影响分析 谢瑞清，李亚国，王 健，陈贤华，黄 浩，许 乔 (成都精密光学工程研究中心，成都 610041) 摘要：抛光是光学加工中获得超精密表面的主要手段。为明确抛光垫特征对平面光学元件抛光面形的影响规律， 分析了抛光垫与工件之间的界面接触形式，并建立接触力学分析模型，运用有限元方法分析 了工件与抛光垫之间 的接触压力分布情况，获得 了抛光垫厚度及表面球半径等特征对抛光压力分布的影响规律。基于理论分析结果， 提出了一种新的平面抛光面形控制技术。在实验中对一块尺寸为430mm~430mmx60mm的熔石英元件进行了加 工，通过将抛光垫表面修整为微凸面，同时对抛光转速比进行精确控制，实现 了工件面形精度的快速收敛。 关键词：光学加工；抛光；工件面形；压力分布；·抛光垫 中图分类号：TQ171．73+4 文献标志码：A doi：10．3969~．issn．1003—501X．2010．07．013 TheEfI．ectofCharacteristicofPadO11Surface Form ofOpticalFlatsinPolishing XIERui-qing，LIYa-guo，WANGJian，CHENXian-hua，HUANGHao，XUQiao (FineOpticalEngineeringResearchCenter,Chengdu610041，China) Abstract：Polishingisaprimarymeanstogetultra—precision surfaceinopticalmanufacturing．Inordertoobtainthe effectofcharacteristic ofpad on surfaceform ofopticalflatsin polishing，thecontactingtypesbetweenpad and workpiecewereanalyzedandamodelwassetup．Thenthecontactingpressuredistributionontheinterfacebetween workpieceandpolishingpadwascalculatedbyusingfiniteelementmethod．Furthemr ore，theeffectofpadthicknessand sphereradiusonpressuredistributionwasinvestigated．Basedonresultsoftheoreticalanalysis，anewpolishingtechnique ofrcorrectingsurfacefomr ofopticalflatsispresented．A 430mm ×430mm x60mm sizefusedsilicaworkpiecehas beenpolishedintheexperiment．Byconditioningpadsurfacetoconvexform andaccuratelycontrollingpolishingspeed ratio，thefomr accuracyofworkpiecehasbeenimprovedfast． Keywords：opticalmanufacturing；polishing；workpiecesurfaceofrm ；pressuredistribution；polishingpad 0 引 言 ： ． 现代大型激光装置需要数量巨大的大口径平面光学元件，同时对元件的加工精度和效率提出了极高