基于PSS刻蚀平台的真空微气压控制研究.pdfVIP

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光电工程

第4O卷第2期 光电工程 、,01.40.No.2 2013牟 2月 Opto—ElectronicEngineering Feb,2013 文章编号:1003—501X(2013)02—0093~07 基于PSS刻蚀平台的真空微气压控制研究 林永奔 一,李勇滔2,李超波2,夏 洋2,汪明刚2,陈 焰 (1.昆明理工大学 信息工程与 自动化学院,昆明 650500; 2.中国科学院微电子研究所 微电子器件与集成技术重点研究室,北京 100029) 摘要:针对 当前图形化蓝宝石衬底 ICP干法工艺刻蚀流程,对工艺腔室真空环境微气压调节非线性特征进行 了动 态监测,本文提出了一种基于 自适应模糊 PID的微气压控制算法 该算法利用质量流量计MFC及真空泵组减压 阀的参数调节,实现真空环境微气压调节。通过Matlab仿真及刻蚀流程气压控制测试表明,工艺腔室的真空微气 压 自适应模糊PID控制基本符合仿真结果。在气压为0.13-20Pa的真空环境下,工艺腔室气压动态控制效果良好, 具有鲁棒性强、超调量小、过渡时间短等特点,满足工艺刻蚀流程中正常刻蚀速率、选择比及均匀性等指标。 关键词:图形化蓝宝石衬底;微气压; 自适应模糊PID控制;Matlab仿真 中图分类号:TP273+.2 文献标志码 :A doi:10.39698.issn.1003.501X.2013.02.015 ResearchofVacuum M icro-pressureControlling BasedonPSSEtchingPlatform LIN Yongben,一,LIYongtao2 LIChaobo ,XIAYang2 WANG Minggang ,CHENYan , , (1.InformationEngineering&AutomationCollege, KunmingUniversityofScienceandTechnology,Kunming650500,China; 2.KeyLaboratoryofMicroelectronicsDevices&IntegratedTechnology. InstituteofMicroelectronicsofChineseAcademyofSciences,Beijing100029,China) Abstract:Amathematicalgorithm basedontheadaptivefuzzyPIDwasintroducedtomonitorandregulatethenonlinear micro-pressurefeatureofinductivelycoupledplasma(ICP)vacuum chamberinhteprocessofcurrentpa~emed dry-etchingofsapphiresubstrate.Thisalgorithm realizeshteregulation ofmicro-pressureofchamberinthevacuum conditionflexiblythroughadjustnigvariablesofhteMassQualityFlowmeter(MFC)andcompressionreleasevalve connectedwiht vacuum pump.TheresultsofMatlabsimulatio

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