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光电工程
厂 维普资讯
第 27卷第 3期 光 电工程 Vo1.27 No.3
2000年 6月 Opto~ElectronicEngineering June 2000
文耄缩号 :1003—501X(2000)03--0008--04
光子扫描隧道显微镜测量
折射率图象的初步研究
8一 I
, 型— 吴世法,潘 石 ~7 7 2一
(大连理工大学物理系 ,辽宁 大连 116024)
摘要 :光子扫描隧道显微镜 (PSTM :PhotonScanningTunnelingMicroscope)测得 的图象不仅
与彤貌有关,而且与贯穿整个样品的光学参数有关,即有可能用它获取样品折射率图象 奉文
在理想情况下运用多层薄膜理论 ,分析 了PSTM 中各种参量 (样品层折射率 ,厚度 .入射角
巩)对折射率测量的影响。结果表明在适 当的样品厚度 ( ≤a/8).能达到较大灵敏度,且无明
显假象,结论可供参数设王特别是样品制备时参
关键词:垄主塑堂睦垄墨丝些;堑苎±型兰 象
中图分类号:0435.1 文献标识码 :A
A Prelim inaryStudyon theRefractiveImageObtained
withPhotonScanningTunnelingM icroscope
JIAN Guo—shu,LIU W ei,WU Shlfa,PAN Shi
(DepartmentofP}ss,DalianUniversity
of Technology,Dalianll6023一China)
Abstract:TheimageobtainedwithphotonScanningTunnelingM icroscope(PSTM )notonlyis
concernedwiththeprofileofthesample,butalsoitsoverallopticalparameters,i.e.,itispossl
bletoacquirerefractiveimageofthesamplewithPSTM .Theinfluencesofvariousparameters
suchassamplelayerrefractivitynl,samplelayerthicknessdLandincidentangle0。onrefractivi
t、,measurementinPSTM areanalyzed.Theresultsshow thatasuitablesamplethicknessd ( ,
-
Ga/8)canattainalargersensitivityandnoobviousspuriousinterferenceimageisexisted.This
conclusioncanbeareferenceforparametersettingofsamplepreparation.
Keywords:Photonscanningtunnel
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