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声表面波工艺原理 – 序言 声表面波器件工艺原理 序： 本文是在收集相关资料的基础上整理编写而成，旨在从机理上对声表工艺进行阐述。 常言：‘要知其然，必知其所以然’。在生产中，我们不仅要知道怎么作，还应知道为什么 要这样作；只有这样，才能作的更好。 由于掌握资料有限，文中又有一些个人看法，谬误难免；敬请纠正。 编者：杜文玺 目录： 一，清洗工艺原理 （一）对基片表面的清洗 1 ，剥离工艺的特点 1，对有机物的清洗 2 ，剥离技术有关问题 2 ，对微粒的清洗 3 ，有关问题微细光刻工艺简介 3，对金属杂质的清洗 （五）微细光刻工艺简介四修频工艺原理 4 ，对微粗糙度的改善 四，修频工艺原理 5 ，超纯水冲洗及甩干 （一）修频技术 6，基片清洗工艺的组合及选择 1 ，等离子体频率修正技术 （二）其它工序的清洗 2 ，减薄金属膜修频技术 （三）对试剂、水、气的要求 3 ，紫外光修频 （四）湿化学清洗设备介绍 4 ，激活聚合物修频技术 二，真空镀膜工艺原理 （三）影响频率稳定性的原因及改善途径 （一）电子束镀膜 1 ，影响谐振器频率稳定性的主要因素 1，电子束镀膜原理 2 ，改善谐振器频率稳定性的途径 2 ，电子束镀膜的质量控制 五，修波形工艺原理 （二）溅射 （一）工艺目的 1，溅射基本原理 （二）吸声原理 2 ，二极直流溅射 （三）吸声材料 3，高频溅射 1 ，环氧树脂；2 ，有机硅橡胶； 4 ，磁控溅射 3 ，丙烯酸脂 （三）讨论 （四）丝网印刷简介 1，剥离工艺对电子束镀膜的要求 1 ，丝网印刷原理 2 ，关于尖峰现象与电迁移 2 ，丝网的种类及选择 三，光刻工艺原理 3 ，网印厚度 （一）光刻胶 4 ，印刷精度 1，正性光刻胶 5 ，与印刷质量有关的因素 2 ，负性光刻胶 6 ，有关注意事项 3，光刻胶的性质 六，划片工艺原理 （二）光刻工艺原理（湿法） （一）目的、要求、方式 1，匀胶；2 ，前烘；3，暴光； （二）简介各种划片方式 4 ，显影；5 坚膜；6，腐蚀； 1 ，砂轮划片 7，去胶；8，问题分析 2 ，金刚刀划片 9，小结（光刻需控制的工艺参数） 3 ，