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光学薄膜的新发展与新技术 刘旭 (浙江大学现代光学仪器国家重点实验室 杭州 310027) 摘要：文中回顾了当前光学薄膜技术的发展现状，论述了最近一个时期光学薄膜的新发展、光 学薄膜技术的新进步，以及由此产生的对光学技术的促进与对光学薄膜器件新应用的拓展。 关键词：光学薄膜；薄膜制备；薄膜 1．引言 随着信息技术的发展，光子与电子成为信息的基本载体，光子在信息技术中的作用越来越重要。 驾驭光子的光学技术为此得到了长足的发展。其中光学薄膜技术发展迅速，自从上个世纪90年代末 以来，薄膜技术在现代光通讯技术，光显示技术以及光存储技术中的应用日益广泛，产业需求极大 促进了光学薄膜技术的发展。很多极限特性的光学薄膜的生产实现了产业化。因此某种程度上可以 说近5～8年光学薄膜的发展，使光学薄膜真正进入了大范围的应用，使光学薄膜从一种光学加工工 序成为了一个不可忽视的光学加工产业。 近年来，光学薄膜技术大发展主要集中在光学薄膜的新应用、光学薄膜制各技术的新发展以及 新型光学薄膜等几个方面，本文主要从上述三个方面论述近几年来光学薄膜技术的主要进展。 2．光学薄膜的应用领域 光学薄膜的新应用在近几年呈现出从传统的仪器领域进入了涉及千家万户的信息电子行业。光 通讯密集波分复用中超窄带高截止滤光片组成的DWl)M器件、增益均衡滤光片，长波通或短波通滤光 片，光纤端面减反射；光投影显示中的各种光学二向分色镜，偏振分光镜，反射镜，UvIR截止滤 光片，RGB合色正方棱镜；光存储中光学读头的各种分光镜，相位要求的分光镜等等。这些应用使 光学薄膜摆脱了仅仅应用于高精尖仪器的地位，而是在广泛社会需求的背景下，找到了自己的重要 地位，促进了技术的高速发展。应用范围的扩大是推进薄膜技术发展的主要动力。从某种程度上说， 近年来光学薄膜技术的发展都是应用的重要性推动。 3．光学薄膜的制各技术 光学薄膜的制备技术有了巨大的发展。传统的电子束蒸发技术不再是光学薄膜制备的唯一技 术。很多以往用于特种薄膜制备的技术被推广应用于现代大批量生产，如高性能IAD技术、离子束 溅射技术、磁控溅射技术、离子镀技术等被广泛应用于常规光学薄膜的制各。图i所示为IAD系统。 虽然IAD技术早就存在，但是能够制各聚集密度极高、而且薄膜器件的光学性能无温飘的器件也是 近几年出现的新进展，使在塑料衬底上用电子柬低温沉积高性能光学薄膜成为可能。 双离子束溅射设备是20世纪90年代末出现的叉一新的光学薄膜制备设备，虽然这种薄膜沉积 技术早已出现，但是真正用于光学薄膜器件大批量的生产，还是90年代末，该技术的出现，改变了 复杂光学薄膜器件制各的传统方式，使得任意光谱特性的光学薄膜器件的制备变得方便可行。因为 它可以用光学与时间两种方式进行监控，可以达到极高的控制精度。同时该技术是超低吸收损耗的 薄膜制备主要技术。也是高聚集密度薄膜的主要制备技术之一。 图1 IAD光学薄膜沉积设备 图2双离子束溅射沉积设备 磁控溅射薄膜割各技术以往总是用于各种金属薄膜或者半导体薄膜、缓冲薄膜的制各，很少直 接用于光学薄膜的制各，2l世纪由于光学薄膜制备技术大批量生产、高性能、高生产效率的要求． 促使磁控溅射技术开始进入常规光学薄膜的批量生产。成为高品质、大批量、高效率光学薄膜制备 Assisted 的主流技术之一。其中Radical 是：沉积速率比常规溅射要高10倍以上，与蒸发技术有相同的沉积速率，低温沉积薄膜，高聚集密 度，可以控制膜层折射率，因此在薄膜器件制备方面有更大的灵活性。 Ass／sted 图3新型RadicalSputtering设备 在光学薄膜制备技术高速发展的同时。光学薄膜的制备技术中最关键的薄膜厚度光学监控技术 取得很大进展。由1二光通讯密集波峰复用超窄带滤光片制备要求光学监控的超高精度，带动了超高 精度光学监控技术的发展，光学薄膜制备的监控技术的光波长分辨率精度有了巨大提高，光控的精 度也有重大改进。目前光学监控的精度已经从以往的1％提高到o01％以上．保证了特种非规整膜系 制备的光学监控糖度要求。使任意光谱特性的光