团簇粒子源及应用.pdfVIP

团簇粒子源及其应用+ 赵子强 (北京大学技术物理系，重离子物理研究所，北京100871) E-mail：zqzhao@ihipms．ihip．ph．edu．en ·国家自然科学基金项目No核工业基金资助项目 一引言 柱子与固体相互作用领域的发展包括三个方面： 靶材，包括晶体、非晶体、有机物 及生物体；能量，高能惭V)、中能(KEY)、低能卜lev)；“炮弹”即作用粒子，包括各类射 线、原子、分子、离子以及团簇粒子腐子． 团簇的含义是：原子、分子或离子团簇，简称团簇(Clusters)或团簇离子，是由几个～ l舻个原子、分子或离子通过物理或化学结合力组成相对稳定的微观和亚微观聚集体。其空 间尺度为几埃～几百埃的范围。由于团簇的物理和化学性质随饱和的原子数日而变化，用 分子描述显得太大，用小块固体描述又显得太小，许多性质既不同于单个原子分子，又不同 于固体或液体，也不能用两者性质作简单线性外延和内插得到。 团簇看作是介于原子、分 子和宏观固体之f回物质结构的新层次，有人称之为物质的“第五态”． 团簇可作为各种物 质由原予分子向大块物质转变起程中的特殊物相，或者说它代表了凝聚态物质的初始状态， 其特殊性类似与生物学中的“胚胎”。团簇的研究有助于我们认识大块凝聚物的某些性质和 规律。 团簇研究的基本问题是研究团簇的原予组态和电子结构、物理和化学性质及其向大块 物质演化过程中与尺寸的关联，团簇同外界环境的相互作用规律等。 团簇科学是--I1由原子分子物理、凝聚态物理、量子化学、表面科学、材料科学甚至 核物理学引入的概念和方法交织在一起，构成的崭新的交叉学科，它在物质结构中处于微 观结构与宏观结构之间的介观区，其独特的性质吸引了许多学者的关注和兴趣，也成为当 今世界科学的前沿及各国竟相加大力度研究的领域。 团簇光学特性在光子、光学器件方面有极其重要的潜在的应用价值，如相位变换反射 镜、双稳装置、非线性波导以及反应时间在皮秒或亚皮秒级的快速光电反应材料等【1．61。 团簇产生的方法：物理制备法和化学合成法，其生成条件是真空、气相和凝聚相合成。 物理方法通常有溅射、热蒸发和激光燕发的方法形成团簇等。 目前现有的团簇源类型有两类：(1)蒸发离化的方法，最早由日本学者Yamlada和Takagi 等人”棚提出，这一方法可用于制备薄膜材料。其优点是薄膜致密性好、附着力强、表面 光滑、外延生长容易、可以利用双束或反应团簇离子束实现化合物薄膜沉积等。缺点是无 法蒸发高熔点材料、也由于使用热蒸发过程中的热惯性，使沉积过程难以控制，其次，电离 化过程是靠电子碰撞进行的，团簇离子只占团簇总数的一小部分。而大部分为中性团簇。 (2)磁控溅射。 点是它可以用于几乎所有的固体材料的沉积．这对于高熔点的材料尤为重要。由于潘宁电离 的作用。使得所形成的大部分团簇的是电离的，而不需要附加电离过程，团簇的大小一致性 好、团簇的大小容易控制(从每个团簇含103个原子到105个原子)，成膜速度快。因此这一 新的团簇形成的方法的出现受到广泛的重视。 由于后者是一种新型的团簇产生设备，还有许多需要研究的内容：磁控溅射条件，溅 射气压、溅射电压及电流等对团簇生成的影响：差分抽气与各区问的真空状态与所形成的团 簇的大小(包括一致性)、数量、团簇的荷电特性(团簇离子占所有团簇总数的比例以及团簇 正离子与团簇负离子的比例)等的关系等：溅射、真空和聚集条件是成膜速度、成膜质量的 关键因素。 我们这台团簇产生设备，考虑了以上两种设备各自的优点，集蒸发溅射产生团簇为一身， 大大扩展丁团簇产生的种类．我们增加了蒸发产生团簇装置。并在沉积室加：r一个蒸发源 可将团簇嵌埋在所蒸发的介质中。这样．可以利用蒸发的方法产生几乎所有金属、半导体团 簇，并形成嵌埋团簇膜．是我国第一台这种类型的团簇产生设备． 二团簇粒子源 (一)团簇的产生 1．溅射产生团簇 1一～I～…十一一Ⅱ一一卜……Ⅲ～一一I 1．进气入口：2．溅射靶：3．冷凝区：4．样品架：5油增压泵： 6．分子泵：7．光阑：8．蒸发源 图1．溅射产生团簇设备示意图 团簇设备的主要参数：(a)溅射电极，两个对靶的磁控溅射头(中100m左右)：(b)靶 的厚度约为2～5n，后面有一个环型磁铁，将溅射控制在磁铁周围，由水冷却：(