脉冲偏压电弧离子镀C-N-Cr薄膜的成分、结构与性能.pdfVIP

Vol一45 第45卷 第5期 金属学跋 No．5 ACTAMETALLURGICASINICA 2009 2009年5月第61啡14页 May PP．610-614 脉；中偏压电弧离子镀C—N—Cr薄膜的成分、结构与性能 李红凯-) 刘琪-) 林国强z) 董闯-’ 1)大连理工大学材料科学与工程学院，大连116085 16085 2)大连理工大学物理与光电工程学院，大连1 摘要 用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持偏压一致和工作气压恒定的条件下，控制不同氮(N)流量，在硬质合金基体上制备了 构与性能．结果表明，随着N流量增加，薄膜中N含量先是线性增加然后趋于平缓，Cr含量先是基本保持不变然后线性减少．在 N流量不超过20 GPa)与弹性模量(500GPa)；当N流量超过20mL／min时， mL／min时，薄膜保持较高的硬度(30 薄膜硬度与弹性模量急剧下降，在N流量为100 GPa． mL／min时硬度与弹性模量仅为13．6与190．8 关键词 C—N—Cr薄膜，脉冲偏压，电弧离子镀，结构，性能 中图法分类号TB43 文献标识码 A 文章编号 0412—1961(2009)05—0610—05 AND 0FC—N—CrFILMSDEPOSITEDBYPULSED BIASARCIoNPLATING 1)，己，U 1)，LIN 21，DONG 1) 工，舶ngkai Qi Guoqiang Chuang ofmaterialsscienceand of 116085 1)School engineering，DalianUniversityTechnology,Dalian of and of 116085 2)School optoelectronicengineering，DalianUniversityTechnology,Dalian physics NationalTechnicalResearchand China Supportedby High DevelopmentProgramol and (Nos．2006AA0325212007AA032221) form received2008—10-22，inrevised2009-02-03 Manuscript ABSTRACTDiamoI-(1-like usedtodescribeawide of C81- carbon(DLC)，which rangeamorphous bonfilms bond．hasbeen studiedand inthefieldsofmechanics， containingsp3 extensively applied