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脉冲激光沉积法制备VO_2热致变色薄膜研究进展.pdf
脉冲激光沉积法制备V0。热致变色薄膜研究进展 83
脉冲激光沉积法制备V02热致变色薄膜研究进展
Thin
of ThermochromicFilms
StudyV02
FabricatedPulsedLaser
by Deposition
3
李毅1’2，王海方1，俞晓静1，黄毅泽1，张虎1，张伟1，朱慧群1
(1上海理工大学光学与电子信息工程学院，
上海200093；2上海市现代光学系统重点实验室，
LIYil’2，WANG
Hai—fan91，YUXiao—jin91，
HUANGYi—zel，ZHANG
Hul，ZHANGWeil，ZHUHui—qunl’3
(1 of andElectronicInformation
CollegeOptical Engineering，
of forScienceand 200093，China；
UniversityShanghai Techn0109y，Shanghai
2 ofModern Instituteof
ShanghaiKeyLaboratory 0ptical 200093，China；3
System，Shanghai
ThinFilmsand
Nanomaterials，WuyiUniversity，Jiangmen
摘要：基于半导体和金属间的相变特性，伴随着温度，电场、压力的变化，具有相关智能特性的VO：薄膜材料具有较大的
应用潜力。本文主要阐述脉冲激光沉积技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点，详细介绍脉冲激光沉积制
备VO。薄膜材料的工艺参数和国内外研究进展，并与几种常规制备方法进行对比，给出脉冲激光沉积掺杂对VOz薄膜
材料特性的影响，以及采用脉冲激光沉积制备V0：纳米材料，讨论了脉冲激光沉积制备具有智能特性的V0。薄膜材料
存在的问题和发展方向。
关键词：脉冲激光沉积；V0：；薄膜；制备；掺杂
中图分类号：TB43；TN215文献标识码：A 文章编号：1001—4381(2009)12一0083一06
onthecharacteristicsofsemiconductorandmetal
Abstract：Based transition，with
phase temperature
electricor fields，and variations，vanadiumdioxidethinfilmwith
variations， magnetic
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