淬火处理对弛豫铁电大晶粒电畴形态的影响.pdfVIP

淬火处理对弛豫铁电大晶粒电畴形态的影响.pdf

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中国科协第五届青年学术年会陕西卫星会议论文集 新材辩与先进制造技术 1998。73:3076. 【J].2002,363:134. Y Y Y.F,LeeST.et 【18]Dai Y,BsiQ,etaI.Chem.Phys.Lett[J]. [7]TangH,Zhang a1.J.A001.Phys Y。ZhArlg 【j].1999,85:7981. 2003,375:96. Wen D YF,LeeS ReviewB【J】.2000.61:n9] J G。LaoJ Y,WangZ,吼aI.ehem.Phys.Lett [8】Zhang T.Physical 4518. 【j].2003,372.717. H D aI.SolidState [20】DaiZ.R.Pan [9】ZhangZ,YuP,et Commun[J]. 1999.109:677. 2003,13(1):12. D [10】陈光华,邓金祥.纳米薄膜技术与应用【M].北京:化[21】Yu肌HJ.XieS.S,LiuF,et81.Chem.Phys.Lett 学工业出版社.2004. 【j】.2003,371:337. Dai Y Y 81.Journalof [22] Y.LiQK.eta1.Chem.Phys.Lett[J]. [11]ZhangF,TangH,LeeS.T,et crys· Y,Zhang tal 2002。358:83. Growth[j】.2000,212:115。 S N,kC.S.Mater.Sei.Eng.A[J】.【23】 周永溶.半导体材料[M].北京:北京理工大学出版 【12]LeeT,Wang 2000。286:16. 牡。1992。 S H XuDs,XuYJ,Chert13P,eta1.Adv.Mater【J]. FanS,CaoJ,DangY,et8I.Mater.Sei.E呕.C[24】 [13] 【j].2001,15·295. 2000,12:520。 X B J H。YuSH.eta1.Chem.Mater[J]. [14]DaiL.ChenL,ZhouT,HuQ.Phys·Condens.【25]YangJ,Zeng mater[1].2002,14:473. 2000,12·3259. W Y N.et [26] LF,JiaoJ.Michael.Coulter,logan.Love, 【15]ShiS,ZhengF,Wang a1.1ee.Chem.Phys. Dong t,ett[J].2001,345.377。 Chem.Phys.Lett[J]。2003,376-653。 T 【27]薛增泉,吴全德,李洁.薄膜物理[M].北京:电子工 [16]HouN,BinC,JunL。eta1.Aopl.Phys.Lett[

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